Hoʻoulu hou ʻana a me ka hoʻomohala ʻana i ka hoʻoulu ʻana a me ka hoʻomohala ʻana

ʻO ka sputtering kahi hanana i paʻi ai nā ʻāpana ikaika (maʻa mau iona maikaʻi o nā kinoea) i ka ʻili o kahi paʻa (i kapa ʻia ma lalo o ka mea i hoʻopaʻa ʻia), e hoʻoheheʻe ai i nā ʻātoma (a i ʻole nā ​​mole) ma ka ʻili o ka mea paʻa.

Ua ʻike ʻia kēia ʻano mea e Grove i ka makahiki 1842 i ka wā i neʻe ʻia ai ka mea cathode i ka paia o kahi paipu māmā i ka wā o kahi hoʻokolohua e aʻo ai i ka cathodic corrosion. Ua ʻike ʻia kēia ʻano sputtering i ka substrate deposition o nā kiʻiʻoniʻoni lahilahi i ka makahiki 1877, ma muli o ka hoʻohana ʻana i kēia ʻano deposition o nā kiʻiʻoniʻoni lahilahi i ka hoʻomaka ʻana o ka sputtering rate haʻahaʻa, lohi kiʻi kiʻiʻoniʻoni, pono e hoʻonohonoho ʻia i loko o ka hāmeʻa o ke kaomi kiʻekiʻe a komo i loko o ke kinoea affective a me nā ʻano pilikia ʻē aʻe, no laila ua lohi ka hoʻomohala ʻana a kokoke e hoʻopau ʻia, hoʻopau wale i ka metala. dielectrics, a me nā mea hoʻohui kemika, nā mea ma kahi helu liʻiliʻi o nā noi. A hiki i ka 1970s, ma muli o ka puka ʻana mai o ka ʻenehana magnetron sputtering, ua hoʻomohala wikiwiki ʻia ka sputtering coating, hoʻomaka e komo i ke ola hou o ke alanui. ʻO kēia no ka mea hiki ke hoʻopaʻa ʻia ke ʻano o ka magnetron sputtering e ka orthogonal electromagnetic field ma nā electrons, e hoʻonui ana i ka likelika o ka hui ʻana o nā electrons a me nā molekole kinoea, ʻaʻole wale e hoʻemi i ka uila i hoʻohui ʻia i ka cathode, a hoʻomaikaʻi i ka sputtering rate o nā ion maikaʻi ma ka cathode target, e hōʻemi ana i ka hiki ke hoʻopaʻa ʻia i kona mau electrons, ʻo ia hoʻi ka haʻahaʻa haʻahaʻa. nā hiʻohiʻona nui o ka "wikiwiki kiʻekiʻe a me ka wela haʻahaʻa".

I nā makahiki 1980, ʻoiai he ʻumi mau makahiki wale nō ia, ke kū nei ia mai ka hale hana, ʻoiaʻiʻo i loko o ke kahua o ka hana ʻenehana nui. Me ka hoʻomohala hou ʻana o ka ʻepekema a me ka ʻenehana, i nā makahiki i hala iho nei i ke kula o ka sputtering coating a me ka hoʻokomo ʻana o ka ion beam i hoʻonui ʻia i ka sputtering, ka hoʻohana ʻana i kahi kukui ākea o ke kumu ion ikaika o kēia manawa i hui pū ʻia me ka modulation magnetic field, a me ka hui pū ʻana o ka dipole sputtering maʻamau i haku ʻia i kahi mode sputtering hou; a ʻo ia ka hoʻokomo ʻana i ka mana o kēia manawa i ke kumu hoʻoheheʻe magnetron sputtering. ʻO kēia ʻenehana AC magnetron sputtering medium-frequency, i kapa ʻia ʻo twin target sputtering, ʻaʻole wale e hoʻopau i ka hopena "nalo" o ka anode, akā hoʻopau pū i ka pilikia "poisoning" o ka cathode, kahi e hoʻomaikaʻi nui ai i ka paʻa o ka magnetron sputtering, a hāʻawi i kahi kumu paʻa no ka hana ʻana o nā kiʻi ʻoniʻoni lahilahi. Ua hoʻomaikaʻi nui kēia i ka paʻa o ka magnetron sputtering a hāʻawi i kahi kumu paʻa no ka hana ʻenehana o nā kiʻi ʻoniʻoni lahilahi. I nā makahiki i hala iho nei, ua lilo ka sputtering coating i mea ʻenehana hoʻomākaukau kiʻiʻoniʻoni wela, e hana ana i ke kahua o ka ʻenehana hoʻoheheʻe ʻana.

-Ua hoʻokuʻu ʻia kēia ʻatikala emea hana mīkini hoʻopaʻa haʻahaʻaGuangdong Zhenhua