Ioi-sorta bidezko sputtering estaldura eta ioi-sorta bidezko grabatzea

1. Ioi-sorta bidezko sputtering estaldura

Materialaren gainazala energia ertaineko ioi-sorta batekin bonbardatzen da, eta ioien energiak ez du materialaren kristal-sarean sartzen, baizik eta energia helburu-atomoei transferitzen die, materialaren gainazaletik urrunduz ihinztatzea eraginez, eta gero piezan metatuz film mehe bat eratuz. Ioi-sortak sortutako ihinztatzeari esker, ihinztatutako film-geruzako atomoen energia oso altua da, eta helburu-materiala hutsean ioi-sorta batekin bonbardatzen da, film-geruzaren purutasuna handia da, eta kalitate handiko filmak metatu daitezke, ioi-sorta film-geruzaren egonkortasuna hobetuz, eta horrek film-geruzaren propietate optikoak eta mekanikoak hobetzeko helburua lor dezake. Ioi-sorta ihinztatzearen helburua film-material mehe berriak sortzea da.

2. Ioi-sorta bidezko grabatua

Ioi-izpien bidezko grabatua materialaren gainazalean energia ertaineko ioi-izpien bidezko bonbardaketa bat da, substratuan sputtering-a eta grabatze-efektua sortzeko, erdieroale-gailu bat da, gailu optoelektronikoak eta grafikoen nukleo-teknologiaren ekoizpenaren beste arlo batzuk. Erdieroale-zirkuitu integratuetan txipak prestatzeko teknologiak milioika transistore prestatzea dakar Φ12in (Φ304.8mm) diametroko siliziozko oblea monokristal batean. Transistore bakoitza funtzio desberdinak dituzten film meheen hainbat geruzaz eraikita dago, geruza aktibo bat, geruza isolatzaile bat, isolamendu-geruza bat eta geruza eroale bat osatuz. Geruza funtzional bakoitzak bere eredua du, beraz, film funtzionalaren geruza bakoitza estali ondoren, alferrikako piezak ioi-izpi batekin grabatu behar dira, filmaren osagai erabilgarriak osorik utziz. Gaur egun, txiparen hari-zabalera 7mm-ra iritsi da, eta ioi-izpien bidezko grabatua beharrezkoa da eredu fin hori prestatzeko. Ioi-izpien bidezko grabatua grabatze-lehorrerako metodo bat da, hasieran erabilitako grabatze-metodo hezearekin alderatuta zehaztasun handikoa.

Ioi-sorta bidezko grabatze-teknologia bi motakoa da, ioi-sorta inaktiboen grabatzearekin eta ioi-sorta aktiboen grabatzearekin. Lehenengoa, argon ioi-sorta bidezko grabatzearekin, erreakzio fisikoari dagokio; bigarrena, fluor ioi-sorta bidezko sputtering-arekin, fluor ioi-sorta energia handikoa izateaz gain, tramp efektua sortzen du, fluor ioi-sorta SiO2-rekin ere grabatu daiteke.₂Bai₃N4, GaAs, W eta beste film mehe batzuek erreakzio kimiko bat dute, bai erreakzio fisikoaren prozesua baita, bai ioi-izpien grabatze-teknologiaren erreakzio kimikoaren prozesua ere, grabatze-abiadura azkarra da. Erreakzio-grabatze bidezko gas korrosiboak CF3 dira.₄C₂F₆CCl4 BCl₃, etab., SiF-rako sortutako erreaktiboak₄SiCl3₄GCl₃; eta WF₆ gas korrosiboak ateratzen dira. Ioi-izpien bidezko grabatzeko teknologia da goi-mailako produktuak ekoizteko funtsezko teknologia.

–Artikulu hau argitaratu duhutsean estaltzeko makina fabrikatzaileaGuangdong Zhenhua