3. Influencia de la temperatura del sustrato
La temperatura del sustrato es una condición importante para el crecimiento de la membrana. Proporciona energía adicional a los átomos o moléculas de la membrana y afecta principalmente a su estructura, coeficiente de aglutinación, coeficiente de expansión y densidad de agregación. La reflexión macroscópica en la película, como el índice de refracción, la dispersión, la tensión, la adhesión, la dureza y la insolubilidad, variará considerablemente según la temperatura del sustrato.
(1) Sustrato frío: generalmente se utiliza para la evaporación de películas metálicas.
(2) Ventajas de la alta temperatura:
① Las moléculas de gas residual adsorbidas en la superficie del sustrato se eliminan para aumentar la fuerza de unión entre el sustrato y las moléculas depositadas;
(2) Promover la transformación de la adsorción física a quimisorción de la capa de película, mejorar la interacción entre moléculas, hacer que la película sea compacta, aumentar la adhesión y mejorar la resistencia mecánica;
③ Reducir la diferencia entre la temperatura de recristalización molecular del vapor y la temperatura del sustrato, mejorar la densidad de la capa de película, aumentar la dureza de la capa de película para eliminar la tensión interna.
(3) La desventaja de una temperatura demasiado alta: la estructura de la capa de película cambia o el material de la película se descompone.
4. Efectos del bombardeo iónico
Bombardeo posterior al recubrimiento: mejora la densidad de agregación de la película, potencia la reacción química, aumenta el índice de refracción de la película de óxido, la resistencia mecánica y la adhesión. El umbral de daño por luz aumenta.
5. La influencia del material del sustrato
(1) Un coeficiente de expansión diferente del material del sustrato dará lugar a una tensión térmica diferente de la película;
(2) Las diferentes afinidades químicas afectarán la adhesión y la firmeza de la película;
(3) La rugosidad y los defectos del sustrato son las principales fuentes de dispersión de la película delgada.
6. Impacto de la limpieza del sustrato
Los residuos de suciedad y detergente en la superficie del sustrato provocarán: (1) una mala adhesión de la película al sustrato; ② El aumento de la absorción por dispersión y la baja capacidad antiláser; ③ Un rendimiento deficiente en la transmisión de la luz.
La composición química (pureza y tipos de impurezas), el estado físico (polvo o bloque) y el pretratamiento (sinterización al vacío o forjado) del material de la película afectarán la estructura y el rendimiento de la misma.
8. Influencia del método de evaporación
La energía cinética inicial que proporcionan los diferentes métodos de evaporación para vaporizar moléculas y átomos es muy diferente, lo que da lugar a una gran diferencia en la estructura de la película, que se manifiesta como una diferencia en el índice de refracción, la dispersión y la adhesión.
9. Influencia del ángulo de incidencia del vapor
El ángulo de incidencia del vapor se refiere al ángulo entre la dirección de la radiación molecular del vapor y la normal a la superficie del sustrato recubierto. Este ángulo afecta las características de crecimiento y la densidad de agregación de la película, e influye considerablemente en su índice de refracción y sus características de dispersión. Para obtener películas de alta calidad, es necesario controlar el ángulo de emisión de las moléculas de vapor del material de la película, que generalmente debe limitarse a 30°.
10. Efectos del tratamiento de horneado
El tratamiento térmico de la película en atmósfera favorece la liberación de tensiones y la migración térmica de las moléculas del gas ambiente y de las moléculas de la película, y puede provocar la recombinación de la estructura de la película, por lo que influye considerablemente en el índice de refracción, la tensión y la dureza de la misma.
Fecha de publicación: 29 de marzo de 2024