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Noticias

  • Deposición química en fase vapor asistida por plasma Capítulo 1

    Deposición química en fase vapor (CVD). Como su nombre indica, es una técnica que utiliza reactivos precursores gaseosos para generar películas sólidas mediante reacciones químicas atómicas e intermoleculares. A diferencia de la PVD, el proceso CVD se lleva a cabo principalmente en un entorno de mayor presión (menor vacío), con...
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  • Elementos del proceso y mecanismos de acción que afectan la calidad de los dispositivos de película delgada (Parte 2)

    Elementos del proceso y mecanismos de acción que afectan la calidad de los dispositivos de película delgada (Parte 2)

    3. Influencia de la temperatura del sustrato La temperatura del sustrato es una de las condiciones importantes para el crecimiento de la membrana. Proporciona un aporte energético adicional a los átomos o moléculas de la membrana y afecta principalmente a la estructura de la membrana, el coeficiente de aglutinación, el coeficiente de expansión y la agregación...
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  • Factores y mecanismos del proceso que afectan la calidad de los dispositivos de película delgada (Parte 1)

    Factores y mecanismos del proceso que afectan la calidad de los dispositivos de película delgada (Parte 1)

    La fabricación de dispositivos ópticos de película delgada se lleva a cabo en una cámara de vacío, y el crecimiento de la capa de película es un proceso microscópico. Sin embargo, en la actualidad, los procesos macroscópicos que se pueden controlar directamente son algunos factores macroscópicos que tienen una relación indirecta con la calidad...
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  • Introducción a la historia del desarrollo de la tecnología de evaporación

    Introducción a la historia del desarrollo de la tecnología de evaporación

    El proceso de calentar materiales sólidos en un entorno de alto vacío para sublimarlos o evaporarlos y depositarlos sobre un sustrato específico para obtener una película delgada se conoce como recubrimiento por evaporación al vacío (o simplemente recubrimiento por evaporación). La historia de la preparación de películas delgadas mediante evaporación al vacío...
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  • Introducción al recubrimiento ITO

    Introducción al recubrimiento ITO

    El óxido de indio y estaño (óxido de indio y estaño, también conocido como ITO) es un material semiconductor de tipo n con una banda prohibida ancha y fuertemente dopado, que presenta una alta transmitancia de luz visible y características de baja resistividad, por lo que se utiliza ampliamente en células solares, pantallas planas, ventanas electrocrómicas, materiales inorgánicos y orgánicos...
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  • Máquina de recubrimiento por centrifugación al vacío de laboratorio

    Los recubridores centrífugos al vacío de laboratorio son herramientas importantes en el campo de la deposición de películas delgadas y la modificación de superficies. Este equipo avanzado está diseñado para aplicar de forma precisa y uniforme películas delgadas de diversos materiales sobre sustratos. El proceso implica la aplicación de una solución líquida o...
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  • Modo de deposición asistida por haz de iones y su selección de energía

    Modo de deposición asistida por haz de iones y su selección de energía

    Existen dos modos principales de deposición asistida por haz de iones: uno es el híbrido dinámico y el otro el híbrido estático. El primero se refiere a que la película, durante el proceso de crecimiento, siempre está acompañada por una cierta energía y corriente de haz de bombardeo de iones sobre la película; el segundo se refiere a la predeposición sobre la superficie de la misma...
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  • Tecnología de deposición por haz de iones

    Tecnología de deposición por haz de iones

    ① La tecnología de deposición asistida por haz de iones se caracteriza por una fuerte adhesión entre la película y el sustrato, resultando en una capa de película muy resistente. Los experimentos han demostrado que la adhesión en la deposición asistida por haz de iones, en comparación con la deposición térmica de vapor, aumenta varias veces, llegando a cientos de veces.
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  • Recubrimiento iónico al vacío

    Recubrimiento iónico al vacío

    El recubrimiento iónico al vacío (también conocido como deposición iónica) fue propuesto en Estados Unidos en 1963 por la empresa Somdia DM Mattox, y en la década de 1970 experimentó un rápido desarrollo como nueva tecnología de tratamiento de superficies. Consiste en el uso de una fuente de evaporación o un blanco de pulverización catódica en una atmósfera de vacío para que la película...
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  • La capa de película en el vidrio recubierto se elimina

    El vidrio recubierto se divide en vidrio recubierto por evaporación, recubierto por pulverización catódica con magnetrón y recubierto por deposición de vapor en línea. Dado que el método de preparación de la película es diferente, el método para eliminarla también lo es. Sugerencia 1: Utilizar ácido clorhídrico y polvo de zinc para pulir y frotar...
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  • El papel de los recubrimientos de las herramientas de corte - Capítulo 2

    Incluso a temperaturas de corte muy elevadas, la vida útil de la herramienta de corte puede prolongarse mediante un recubrimiento, reduciendo así significativamente los costes de mecanizado. Además, el recubrimiento de la herramienta de corte puede disminuir la necesidad de fluidos lubricantes. Esto no solo reduce los costes de material, sino que también contribuye a la protección del medio ambiente.
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  • El papel de los recubrimientos de las herramientas de corte - Capítulo 1

    Los recubrimientos para herramientas de corte mejoran las propiedades de fricción y desgaste de las mismas, por lo que son esenciales en las operaciones de corte. Durante muchos años, los proveedores de tecnología de procesamiento de superficies han desarrollado soluciones de recubrimiento personalizadas para mejorar la resistencia al desgaste de las herramientas de corte y la eficiencia del mecanizado.
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  • Introducción a diferentes bombas de vacío en sistemas de vacío

    El rendimiento de las distintas bombas de vacío presenta diferencias además de su capacidad para generar vacío en la cámara. Por lo tanto, al elegir una bomba, es fundamental comprender su función dentro del sistema de vacío. A continuación, se resume el papel que desempeña la bomba en diferentes ámbitos de trabajo.
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  • Máquina de recubrimiento por pulverización catódica al vacío para baldosas cerámicas

    La máquina de recubrimiento por pulverización catódica al vacío utiliza tecnología avanzada para aplicar recubrimientos de película delgada a baldosas cerámicas. Este proceso implica el uso de una cámara de vacío para depositar recubrimientos metálicos o compuestos sobre la superficie de las baldosas, lo que da como resultado un acabado duradero y estéticamente atractivo.
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  • Máquina de recubrimiento al vacío para metalización de autopartes

    Uno de los factores clave que impulsan esta tendencia es la creciente conciencia sobre la importancia de utilizar recubrimientos de alta calidad en las piezas de automóviles. Estos recubrimientos no solo mejoran la estética de las piezas, sino que también las protegen contra la corrosión y el desgaste, prolongando así su vida útil.
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