Ŝprucado estas fenomeno, en kiu energiaj partikloj (kutime pozitivaj jonoj de gasoj) trafas la surfacon de solido (sube nomata la cela materialo), kaŭzante ke atomoj (aŭ molekuloj) sur la surfaco de la cela materialo eskapu el ĝi.
Ĉi tiun fenomenon malkovris Grove en 1842, kiam la katoda materialo migris al la muro de elektrontubo dum eksperimento por studi katodan korodon. Ĉi tiu ŝprucmetodo por demeti maldikajn filmojn sur substraton estis malkovrita en 1877. Pro la malalta ŝprucripideco kaj malrapida filmrapideco de ĉi tiu metodo, la demetado de maldikaj filmoj en la fruaj stadioj devas esti instalita en aparatoj kun alta premo kaj transdonita al gaso, kiu kaŭzas serion da problemoj. Tial la disvolviĝo estas tre malrapida kaj preskaŭ tute neniigita. Nur en malgrandaj aplikoj troviĝas kemie reaktivaj valormetaloj, obstinaj metaloj, dielektrikoj kaj kemiaj kombinaĵoj. Ĝis la 1970-aj jaroj, pro la apero de magnetrona ŝpructeknologio, la ŝpructegaĵo rapide disvolviĝis kaj komencis reviviĝi. Ĉi tio estas ĉar la magnetrona ŝprucmetodo povas esti limigita per orta elektromagneta kampo sur la elektronoj, pliigante la probablecon de kolizio de elektronoj kaj gasmolekuloj, ne nur reduktante la aldonitan tension al la katodo, sed ankaŭ plibonigante la ŝprucripecon de pozitivaj jonoj sur la cela katodo, reduktante la probablecon de bombado de elektronoj sur la substrato, tiel malaltigante ĝian temperaturon, kun "alta rapideco, malalta temperaturo". La du ĉefaj karakterizaĵoj estas "alta rapideco kaj malalta temperaturo".
Kvankam ĝi aperis nur antaŭ dek du jaroj, ĝi elstaris el la laboratorioj, vere en la kampon de industriigita amasproduktado. Kun la plia disvolviĝo de scienco kaj teknologio, en la lastaj jaroj en la kampo de ŝprucado per tegaĵo kaj la enkonduko de jonfasko por plibonigita ŝprucado, la uzo de larĝafasko de forta kurenta jonfonto kombinita kun magnetkampa modulado, kaj kun la kombinaĵo de konvencia dipola ŝprucado kunmetita de nova ŝprucada reĝimo, kaj estos la enkonduko de mezfrekvenca alterna kurenta elektroprovizo al la magnetrona ŝprucada cela fonto. Ĉi tiu mezfrekvenca AC-magnetrona ŝprucada teknologio, nomata ĝemelcela ŝprucado, ne nur forigas la "malaperan" efikon de la anodo, sed ankaŭ solvas la "venenan" problemon de la katodo, kio multe plibonigas la stabilecon de magnetrona ŝprucado kaj provizas solidan fundamenton por la industriigita produktado de kunmetitaj maldikaj filmoj. Ĉi tio multe plibonigis la stabilecon de magnetrona ŝprucado kaj provizis solidan fundamenton por la industriigita produktado de kunmetitaj maldikaj filmoj. En la lastaj jaroj, ŝpructegaĵo fariĝis varmega emerĝanta filmprepara teknologio, aktiva en la kampo de vakua tegaĵteknologio.
–Ĉi tiu artikolo estas publikigita defabrikanto de vakuaj tegaĵmaŝinojGuangdong Zhenhua
Afiŝtempo: Dec-05-2023