1. Eigenschaften des Elektronenflusses im Lichtbogen
Die Dichte des Elektronenflusses, des Ionenflusses und der hochenergetischen neutralen Atome im durch Lichtbogenentladung erzeugten Lichtbogenplasma ist wesentlich höher als bei einer Glimmentladung. Im Beschichtungsraum befinden sich mehr ionisierte Gas- und Metallionen, angeregte hochenergetische Atome und verschiedene aktive Gruppen, die in den Heiz-, Reinigungs- und Beschichtungsphasen des Beschichtungsprozesses eine wichtige Rolle spielen. Die Wirkungsform des Lichtbogenelektronenflusses unterscheidet sich von der des Ionenstrahls. Nicht alle Elektronen laufen zu einem „Strahl“ zusammen, sondern verlaufen meist in einem divergierenden Zustand. Daher spricht man von einem Lichtbogenelektronenfluss. Da die Lichtbogenelektronen zur Anode fließen, wird der Lichtbogenelektronenfluss dorthin geleitet, wo die positive Elektrode der Lichtbogenstromversorgung angeschlossen ist. Die Anode kann ein Werkstück, eine Hilfsanode, ein Tiegel usw. sein.
2.Methode zur Erzeugung eines Lichtbogenelektronenflusses
(1) Die Gasquelle erzeugt einen Lichtbogenelektronenstrom: Der Lichtbogenstrom der Hohlkathoden- und Heißdraht-Lichtbogenentladung kann etwa 200 A erreichen und die Lichtbogenspannung beträgt 50–70 V.
(2) Eine Feststoffquelle erzeugt einen Lichtbogenelektronenfluss: Kathodenlichtbogenquelle, einschließlich kleiner Lichtbogenquelle, zylindrischer Lichtbogenquelle, rechteckiger ebener großer Lichtbogenquelle usw. Der Lichtbogenstrom jeder Kathodenlichtbogenquellenentladung beträgt 80–200 A und die Lichtbogenspannung beträgt 18–25 V.
Der hochdichte und niederenergetische Lichtbogenelektronenfluss in zwei Arten von Lichtbogenentladungsplasmen kann eine intensive Kollisionsionisation mit Gas- und Metallfilmatomen erzeugen, wodurch mehr Gasionen, Metallionen und verschiedene hochenergetische aktive Atome und Gruppen entstehen und so die Gesamtaktivität der Filmschichtionen verbessert wird.
–Dieser Artikel wurde von Guangdong Zhenhua veröffentlicht, einemHersteller von Vakuumbeschichtungsanlagen
Veröffentlichungszeit: 31. Mai 2023