Bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) handelt es sich um eine Filmbildungstechnologie, bei der durch Erhitzen, Plasmaverstärkung, Fotounterstützung und andere Mittel gasförmige Substanzen durch eine chemische Reaktion unter Normal- oder Niedrigdruck zu festen Filmen auf der Substratoberfläche verarbeitet werden.
Im Allgemeinen wird eine Reaktion, bei der der Reaktant ein Gas und eines der Produkte ein Feststoff ist, als CVD-Reaktion bezeichnet. Es gibt viele Arten von Beschichtungen, die durch CVD-Reaktionen hergestellt werden, insbesondere in der Halbleiterindustrie. In der Halbleiterindustrie beispielsweise sind die Verfeinerung von Rohstoffen, die Herstellung hochwertiger Halbleiter-Einkristallfilme und die Züchtung polykristalliner und amorpher Filme – von elektronischen Geräten bis hin zu integrierten Schaltkreisen – mit der CVD-Technologie verbunden. Auch die Oberflächenbehandlung von Materialien wird bevorzugt. Beispielsweise können für verschiedene Materialien wie Maschinen, Reaktoren, Luft- und Raumfahrt, medizinische und chemische Geräte je nach Bedarf funktionale Beschichtungen mit Korrosionsbeständigkeit, Hitzebeständigkeit, Verschleißfestigkeit und Oberflächenhärtung durch CVD-Filmbildungsverfahren hergestellt werden.
—— Dieser Artikel wird von Guangdong Zhenhua veröffentlicht, einem Hersteller vonVakuumbeschichtungsanlage
Beitragszeit: 04.03.2023