Premazivanje raspršivanjem jonskim snopom i nagrizanje jonskim snopom

1. Premaz raspršivanjem jonskim snopom

Površina materijala se bombarduje ionskim snopom srednje energije, pri čemu energija iona ne ulazi u kristalnu rešetku materijala, već prenosi energiju na mete atoma, uzrokujući njihovo raspršivanje s površine materijala, a zatim formiranje tankog filma taloženjem na radnom komadu. Zbog raspršivanja koje proizvodi ionski snop, energija atoma raspršenog sloja filma je vrlo visoka, a meta materijal se bombarduje ionskim snopom u visokom vakuumu, čistoća sloja filma je visoka i mogu se taložiti visokokvalitetni filmovi, dok se stabilnost sloja filma ionskog snopa poboljšava, što može postići svrhu poboljšanja optičkih i mehaničkih svojstava sloja filma. Svrha raspršivanja ionskim snopom je formiranje novih tankoslojnih materijala.

2. Nagrizanje ionskim snopom

Nagrizanje ionskim snopom je također bombardiranje površine materijala ionskim snopom srednje energije kako bi se proizvelo raspršivanje, efekat nagrizanja na podlozi, a koristi se u poluprovodničkim uređajima, optoelektronskim uređajima i drugim područjima proizvodnje grafičkih jezgara. Tehnologija pripreme čipova u poluprovodničkim integriranim kolima uključuje pripremu miliona tranzistora na monokristalnoj silicijumskoj pločici promjera Φ12 in (Φ304,8 mm). Svaki tranzistor je konstruiran od više slojeva tankih filmova s ​​različitim funkcijama, koji se sastoje od aktivnog sloja, izolacijskog sloja, izolacijskog sloja i provodnog sloja. Svaki funkcionalni sloj ima svoj uzorak, tako da nakon što se svaki sloj funkcionalnog filma nanese, beskorisni dijelovi moraju se nagrizati ionskim snopom, ostavljajući korisne komponente filma netaknutim. Danas je širina žice čipa dostigla 7 mm, a nagrizanje ionskim snopom je neophodno za pripremu tako finog uzorka. Nagrizanje ionskim snopom je metoda suhog nagrizanja s visokom preciznošću nagrizanja u usporedbi s metodom mokrog nagrizanja koja se koristila u početku.

Tehnologija nagrizanja ionskim snopom uključuje dvije vrste nagrizanja: neaktivni ionski snop i aktivni ionski snop. Prvi tip, nagrizanje argonskim ionskim snopom, spada u fizičku reakciju; drugi tip, raspršivanje fluoridnim ionskim snopom, pri čemu fluoridni ioni, pored visoke energije, imaju i ulogu trapavog snopa, a fluoridni ioni se mogu nagrizati i SiO2.₂Da₃N4, GaAs, W i drugi tanki filmovi imaju hemijsku reakciju, to je i fizički proces reakcije, ali i proces hemijske reakcije tehnologije nagrizanja jonskim snopom, brzina nagrizanja je velika. Korozivni gasovi za reakcijsko nagrizanje su CF.₄C₂F₆CCl4, BCl₃itd., generirani reaktanti za SiF₄SiCl₄GCl₃i WF₆ se izvlače korozivni plinovi. Tehnologija nagrizanja ionskim snopom ključna je tehnologija za proizvodnju visokotehnoloških proizvoda.

–Ovaj članak je objavljen od straneproizvođač mašina za vakuumsko premazivanjeGuangdong Zhenhua