Kristal kremniý öýjük tehnologiýasyny ösdürmegiň ugry PERT tehnologiýasyny we Topcon tehnologiýasyny hem öz içine alýar, bu iki tehnologiýa adaty diffuziýa usuly öýjük tehnologiýasynyň giňelmegi hökmünde kabul edilýär, olaryň umumy häsiýetleri öýjügiň arka tarapynda passiwasiýa gatlagy bolup, ikisi hem arka meýdany hökmünde doply poli kremniniň gatlagyny ulanýar, mekdep esasan ýokary temperaturaly oksidlenen gatlakda ulanylýar we Tubly PUB PEC we PUB PEC PEC PEC we PECEC PERC öýjükleriniň uly göwrümli önümçiliginde PECVD we tekiz plastinka PECVD ulanyldy.
Turbaly PECVD uly kuwwata eýe we adatça onlarça kHz pes ýygylykly elektrik üpjünçiligini kabul edýär. Ion bombalanmagy we aýlanyp örtmek meselesi passiw gatlagyň hiline täsir edip biler. Tekiz plastinka PECVD aýlanyp örtmek meselesinde kynçylyk çekmeýär we örtük öndürijiliginde has uly artykmaçlyga eýedir we doply Si, Si0X, SiCX filmleriniň ýerleşdirilmegi üçin ulanylyp bilner. Adetmezçiligi, örtülen filmde gaty köp wodorod bar, örtügiň galyňlygy bilen çäklendirilen film gatlagynyň çişmegine sebäp bolýar. Uly kuwwatly turba peç örtügini ulanyp, lpcvd örtük tehnologiýasy has galyň polisilikon plyonkany goýup biler, ýöne örtük bolar, lpcvd prosesinde film gatlagynyň örtügi aýrylandan soň we aşaky gatlaga zyýan bermez. Köpçülikleýin öndürilen Topcon öýjükleri ortaça öwrüliş netijeliligini 23% -e ýetirdi.
——Bu makala çap edildivakuum örtük enjamyGuangdong Zhenhua
Iş wagty: 22-2023-nji sentýabr