மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் பூச்சுகளின் பண்புகள்
(3) குறைந்த ஆற்றல் தெளித்தல். இலக்கில் பயன்படுத்தப்படும் குறைந்த கேத்தோடு மின்னழுத்தம் காரணமாக, பிளாஸ்மா கேத்தோடு அருகே உள்ள இடத்தில் உள்ள காந்தப்புலத்தால் பிணைக்கப்பட்டுள்ளது, இதனால் மக்கள் சுடப்பட்ட அடி மூலக்கூறின் பக்கத்திற்கு அதிக ஆற்றல் கொண்ட சார்ஜ் செய்யப்பட்ட துகள்களைத் தடுக்கிறது. எனவே, சார்ஜ் செய்யப்பட்ட துகள் குண்டுவீச்சினால் ஏற்படும் குறைக்கடத்தி சாதனங்கள் போன்ற அடி மூலக்கூறுக்கு ஏற்படும் சேதத்தின் அளவு மற்ற ஸ்பட்டரிங் முறைகளால் ஏற்படும் சேதத்தை விட குறைவாக உள்ளது.
(4) குறைந்த அடி மூலக்கூறு வெப்பநிலை. மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் ஸ்பட்டரிங் விகிதம் அதிகமாக உள்ளது, ஏனெனில் பிராந்தியத்திற்குள் உள்ள காந்தப்புலத்தில் கேத்தோடு இலக்கு, அதாவது, எலக்ட்ரான் செறிவின் ஒரு சிறிய உள்ளூர்மயமாக்கப்பட்ட பகுதிக்குள் உள்ள இலக்கு வெளியேற்ற ஓடுபாதை அதிகமாக உள்ளது, அதே நேரத்தில் பிராந்தியத்திற்கு வெளியே உள்ள காந்த விளைவில், குறிப்பாக அருகிலுள்ள அடி மூலக்கூறு மேற்பரப்பின் காந்தப்புலத்திலிருந்து விலகி, எலக்ட்ரான் செறிவு மிகக் குறைவாக சிதறுவதால் ஏற்படுகிறது, மேலும் இருமுனை ஸ்பட்டரிங் விடக் குறைவாகவும் இருக்கலாம் (ஏனெனில் ஒரு வரிசையின் இரண்டு வேலை வாயு அழுத்தத்திற்கும் இடையிலான வேறுபாடு). எனவே, மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் நிலைமைகளின் கீழ், அடி மூலக்கூறின் மேற்பரப்பில் எலக்ட்ரான்கள் தாக்குவது சாதாரண டையோடு ஸ்பட்டரிங் செய்வதை விட மிகக் குறைவு, மேலும் அடி மூலக்கூறில் ஏற்படும் எலக்ட்ரான்களின் எண்ணிக்கை குறைவதால் அடி மூலக்கூறு வெப்பநிலையில் அதிகப்படியான அதிகரிப்பு தவிர்க்கப்படுகிறது. கூடுதலாக, மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் முறையில், மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் சாதனத்தின் அனோடை கேத்தோடு அருகாமையில் அமைக்கலாம், மேலும் அடி மூலக்கூறு வைத்திருப்பவர் தரையிறக்கப்படாமலும் இடைநீக்க திறனிலும் இருக்க முடியும், இதனால் எலக்ட்ரான்கள் தரையிறக்கப்பட்ட அடி மூலக்கூறு வைத்திருப்பவரின் வழியாகச் சென்று அனோட் வழியாகப் பாயாமல் போகலாம், இதன் மூலம் பூசப்பட்ட அடி மூலக்கூறைத் தாக்கும் உயர் ஆற்றல் எலக்ட்ரான்களைக் குறைத்து, எலக்ட்ரான்களால் ஏற்படும் அடி மூலக்கூறு வெப்பத்தின் அதிகரிப்பைக் குறைத்து, வெப்ப உற்பத்திக்கு வழிவகுக்கும் அடி மூலக்கூறின் இரண்டாம் நிலை எலக்ட்ரான் குண்டுவீச்சை பெரிதும் குறைக்கிறது.
(5) இலக்கின் சீரற்ற பொறித்தல். பாரம்பரிய மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் இலக்கில், சீரற்ற காந்தப்புலத்தைப் பயன்படுத்துவதால், பிளாஸ்மா உள்ளூர் குவிப்பு விளைவை உருவாக்கும், ஸ்பட்டரிங் பொறித்தல் விகிதத்தின் உள்ளூர் நிலையில் இலக்கை சிறப்பாக மாற்றும், இதன் விளைவாக இலக்கு குறிப்பிடத்தக்க சீரற்ற பொறிப்பை உருவாக்கும். இலக்கின் பயன்பாட்டு விகிதம் பொதுவாக சுமார் 30% ஆகும். இலக்கு பொருளின் பயன்பாட்டு விகிதத்தை மேம்படுத்த, இலக்கு காந்தப்புலத்தின் வடிவம் மற்றும் விநியோகத்தை மேம்படுத்துதல் போன்ற பல்வேறு மேம்பாட்டு நடவடிக்கைகளை நீங்கள் எடுக்கலாம், இதனால் இலக்கு கேத்தோடில் உள்ள காந்தம் உள் இயக்கம் மற்றும் பல.
காந்தப் பொருள் இலக்குகளைத் தெளிப்பதில் சிரமம். தெளிக்கும் இலக்கு அதிக காந்த ஊடுருவல் கொண்ட ஒரு பொருளால் செய்யப்பட்டிருந்தால், காந்த விசைக் கோடுகள் இலக்கின் உட்புறம் வழியாக நேரடியாகச் சென்று ஒரு காந்த ஷார்ட்-சர்க்யூட் நிகழ்வை ஏற்படுத்தும், இதனால் காந்தப்புலத்தை வெளியேற்றுவது கடினம். விண்வெளி காந்தப்புலத்தை உருவாக்குவதற்காக, மக்கள் பல்வேறு ஆய்வுகளை மேற்கொண்டுள்ளனர், எடுத்துக்காட்டாக, இலக்குப் பொருளின் உள்ளே காந்தப்புலத்தை நிறைவு செய்ய, காந்த இலக்கு வெப்பநிலை அதிகரிப்பின் அதிக கசிவை உருவாக்குவதை ஊக்குவிக்க இலக்கில் பல இடைவெளிகளை விட்டுவிடுகிறார்கள், அல்லது இலக்குப் பொருளின் காந்த ஊடுருவலைக் குறைக்க.
–இந்தக் கட்டுரையை வெளியிட்டதுவெற்றிட பூச்சு இயந்திர உற்பத்தியாளர்குவாங்டாங் ஜென்ஹுவா
இடுகை நேரம்: டிசம்பர்-01-2023