Ciri-ciri salutan percikan magnetron
(3) Percikan tenaga rendah. Disebabkan voltan katod rendah yang dikenakan pada sasaran, plasma terikat oleh medan magnet di ruang berhampiran katod, sekali gus menghalang zarah bercas bertenaga tinggi ke sisi substrat yang ditembak orang. Oleh itu, tahap kerosakan pada substrat seperti peranti semikonduktor yang disebabkan oleh pengeboman zarah bercas adalah lebih rendah daripada yang disebabkan oleh kaedah percikan lain.
(4) Suhu substrat yang rendah. Kadar percikan magnetron adalah tinggi, kerana sasaran katod dalam medan magnet di dalam kawasan tersebut, iaitu landasan pelepasan sasaran di dalam kawasan setempat yang kecil, kepekatan elektron adalah tinggi, manakala dalam kesan magnet di luar kawasan tersebut, terutamanya jauh dari medan magnet permukaan substrat yang berdekatan, kepekatan elektron disebabkan oleh penyebaran yang jauh lebih rendah, dan mungkin juga lebih rendah daripada percikan dipol (kerana perbezaan antara kedua-dua tekanan gas kerja pada suatu peringkat magnitud). Oleh itu, di bawah keadaan percikan magnetron, kepekatan elektron yang membedil permukaan substrat adalah jauh lebih rendah daripada percikan diod biasa, dan peningkatan suhu substrat yang berlebihan dapat dielakkan kerana pengurangan bilangan elektron yang berlaku pada substrat. Di samping itu, dalam kaedah percikan magnetron, anod peranti percikan magnetron boleh diletakkan di sekitar kawasan katod, dan pemegang substrat juga boleh dibumikan dan berada dalam potensi penggantungan, supaya elektron tidak boleh melalui pemegang substrat yang dibumikan dan mengalir keluar melalui anod, sekali gus mengurangkan elektron bertenaga tinggi yang membedil substrat bersalut, sekali gus mengurangkan peningkatan haba substrat yang disebabkan oleh elektron, dan melemahkan pembedilan elektron sekunder substrat dengan ketara, yang mengakibatkan penjanaan haba.
(5) Pengukiran sasaran yang tidak sekata. Dalam sasaran percikan magnetron tradisional, penggunaan medan magnet yang tidak sekata, jadi plasma akan menghasilkan kesan penumpuan tempatan, akan menjadikan sasaran pada kedudukan tempatan kadar pengukiran percikan adalah hebat, hasilnya ialah sasaran akan menghasilkan pengukiran yang tidak sekata yang ketara. Kadar penggunaan sasaran secara amnya kira-kira 30%. Untuk meningkatkan kadar penggunaan bahan sasaran, anda boleh mengambil pelbagai langkah penambahbaikan, seperti meningkatkan bentuk dan taburan medan magnet sasaran, supaya magnet dalam katod sasaran bergerak dalaman dan sebagainya.
Kesukaran dalam memercikkan sasaran bahan magnet. Jika sasaran pemercik diperbuat daripada bahan yang mempunyai kebolehtelapan magnet yang tinggi, garisan daya magnet akan melalui terus bahagian dalam sasaran untuk berlaku fenomena litar pintas magnet, sekali gus menyukarkan nyahcas magnetron. Untuk menjana medan magnet angkasa lepas, orang ramai telah menjalankan pelbagai kajian, contohnya, untuk menepu medan magnet di dalam bahan sasaran, meninggalkan banyak jurang dalam sasaran untuk menggalakkan penjanaan lebih banyak kebocoran peningkatan suhu sasaran magnet, atau untuk mengurangkan kebolehtelapan magnet bahan sasaran.
–Artikel ini dikeluarkan olehpengeluar mesin salutan vakumGuangdong Zhenhua
Masa siaran: 01 Dis-2023

