O le uiga autū o le metotia o le fa'amamago o le vacuum mo le teuina o ata tifaga o le maualuga lea o le fua faatatau o le teuina. O le uiga autū o le metotia o le sputtering o le lautele o meafaitino o ata tifaga o lo'o maua ma le tutusa lelei o le vaega o le ata tifaga, ae o le fua faatatau o le teuina e maualalo. O le ufiufi ion o se metotia e tu'ufa'atasia ai nei faiga e lua.
Mataupu faavae o le ufiufiina o le ion ma tulaga o le fausiaina o ata tifaga
O le faiga fa'atino o le ufiufi ion o lo'o fa'aalia i le Ata. O le potu e fa'apuna ai le vacuum e pamuina i le mamafa i lalo ifo o le 10-4 Pa, ona fa'atumuina lea i le kesi inert (e pei o le argon) i le mamafa o le 0.1~1 Pa. A mae'a ona fa'aogaina se voltage DC leaga e o'o atu i le 5 kV i le substrate, e fa'atuina ai se sone plasma e fa'aitiitia ai le mamafa o le kesi i le va o le substrate ma le ogaumu. O ion kesi inert e fa'avavevaveina e le fanua eletise ma fa'aputuina le fogāeleele o le substrate, ma fa'amamāina ai le fogāeleele o le workpiece. A mae'a lenei faiga fa'amamāina, e amata le faiga ufiufi i le fa'apuna o le mea e ufiufi i le ogaumu. O vaega o le ausa ua fa'apuna e ulufale atu i le sone plasma ma feto'ai ma ion ma electrons ua vavae'ese, ma o nisi o vaega o le ausa ua vavae'ese ma fa'aputuina le workpiece ma le fogāeleele ufiufi i lalo o le fa'avavevaveina o le fanua eletise. I le faagasologa o le ion plating, e le gata o le deposition ae faapea foi le sputtering o positive ions i luga o le substrate, o lea e mafai ai ona fausia le ata manifinifi pe a sili atu le aafiaga o le deposition nai lo le aafiaga o le sputtering.
O le faiga o le ufiufiina o le ion, lea e masani ona fa'apipi'iina ai le mea fa'avae i ion e maualuga le malosi, e matua mama ma e tele ona lelei pe a fa'atusatusa i le sputtering ma le ufiufiina o le evaporation.
(1) E malosi le pipii, e lē faigofie ona sae ese le vaega ufiufi.
(a) I le faagasologa o le ufiufiina o le ion, o le tele o vaega malolosi e mafua mai i le glow discharge e faʻaaogaina e gaosia ai se aafiaga cathodic sputtering i luga o le fogaeleele o le substrate, sputtering ma faamamaina le kesi ma le suauu o loʻo mitiia i luga o le fogaeleele o le substrate e faamama ai le fogaeleele o le substrate seia maeʻa le faagasologa atoa o le ufiufiina.
(b) I le amataga o le ufiufi, e feoa'i fa'atasi le sputtering ma le deposition, lea e mafai ona fausia ai se vaega fesuia'i o vaega i le va o le fa'avae o le ata tifaga po'o se fa'afefiloi o le mea tifaga ma le mea fa'avae, e ta'ua o le "pseudo-diffusion layer", lea e mafai ona fa'aleleia atili ai le fa'atinoga o le pipii o le ata tifaga.
(2) Uiga lelei e fa'a'ofu ai. O se tasi o mafua'aga ona o atomu o mea ufiufi e fa'a'ionize i lalo o le mamafa maualuga ma feto'ai ma molekulu kesi i ni nai taimi i le taimi o le o'o atu i le substrate, ina ia mafai ona fa'asalalauina ions o mea ufiufi i luga o le substrate. E le gata i lea, o atomu o mea ufiufi ua fa'a'ionize e fa'aputuina i luga o le substrate i lalo o le gaioiga a le fanua eletise, o lea e fa'aputuina ai le substrate atoa i se ata manifinifi, ae o le ufiufi e fa'amamago e le mafai ona ausia lenei aafiaga.
(3) O le tulaga maualuga o le ufiufi e mafua mai i le fetolofi o le condensate e mafua mai i le fa'aputuina pea o le ata tifaga ua teuina i ni positive ions, lea e fa'aleleia atili ai le mafiafia o le vaega ufiufi.
(4) E mafai ona valiina i mea u'amea po'o mea e le o ni u'amea se tele o ituaiga vali ma mea e ufiufi ai.
(5) Pe a fa'atusatusa i le vaila'au fa'aputuina o le ausa vaila'au (CVD), e maualalo lona vevela o le substrate, e masani lava i lalo ifo o le 500°C, ae o lona malosi e pipii ai e tutusa lelei lava ma ata tifaga fa'aputuina o le ausa vaila'au.
(6) Maualuga le fua faatatau o le fa'aputuina, vave le fausiaina o ata tifaga, ma le mafiafia o le ufiufi o ata tifaga mai le sefulu nanometers i le microns.
O fa'aletonu o le ufiufi ion: e le mafai ona pulea lelei le mafiafia o le ata; e maualuga le tele o fa'aletonu pe a mana'omia le ufiufi lelei; ma o le a ulufale atu kasa i luga i le taimi o le ufiufi, lea o le a suia ai meatotino o le luga. I nisi tulaga, e fausia ai fo'i ni pu ma niu (e itiiti ifo i le 1 nm).
A o'o i le fua faatatau o le fa'aputuina, e tutusa le ufiufi o le ion ma le metotia o le fa'amamago. A o'o i le lelei o le ata tifaga, o ata tifaga e gaosia e le ufiufi o le ion e latalata pe sili atu nai lo na ata na saunia e le sputtering.
Taimi na lafoina ai: Nov-08-2022