D'Haaptmerkmale vun der Vakuumverdampungsmethod fir Filmer ze deposéieren ass den héije Oflagerungsquote.D'Haaptmerkmale vun der Sputtermethod ass déi breet Palette vu verfügbare Filmmaterialien an déi gutt Uniformitéit vun der Filmschicht, awer d'Oflagerungsquote ass niddereg.Ionbeschichtung ass eng Method déi dës zwee Prozesser kombinéiert.
Ionbeschichtungsprinzip a Filmbildungsbedéngungen
Den Aarbechtsprinzip vun der Ionbeschichtung gëtt op der Foto gewisen.D'Vakuumkammer gëtt op en Drock ënner 10-4 Pa gepompelt, an dann mat Inertgas (zB Argon) op en Drock vun 0,1 ~ 1 Pa gefëllt. niddereg Drock Gas Glow Offlossquantitéit Plasma Zone ass tëscht dem Substrat an der Crucible etabléiert.D'Inertgas-Ionen ginn duerch dat elektrescht Feld beschleunegt a bombardéiert d'Uewerfläch vum Substrat, sou datt d'Uewerfläch vum Werkstéck botzt.Nodeems dëse Botzprozess ofgeschloss ass, fänkt de Beschichtungsprozess un mat der Verdampfung vum Material, deen an der Crèche beschichtet gëtt.D'verdampft Damppartikelen kommen an d'Plasmazon an kollidéieren mat den dissoziéierten inert positiven Ionen an Elektronen, an e puer vun den Damppartikelen ginn dissoziéiert a bombardéiert d'Werkstéck an d'Beschichtungsfläch ënner der Beschleunegung vum elektresche Feld.Am Ionbeschichtungsprozess gëtt et net nëmmen Oflagerung, awer och Sputtering vu positiven Ionen um Substrat, sou datt den dënnen Film nëmme geformt ka ginn wann den Oflagerungseffekt méi grouss ass wéi de Sputtereffekt.
Den Ionbeschichtungsprozess, an deem de Substrat ëmmer mat héich-Energie-Ionen bombardéiert gëtt, ass ganz propper an huet eng Rei Virdeeler am Verglach zum Sputter- a Verdampfungsbeschichtung.
(1) Staark Adhäsioun, Beschichtungsschicht schielen net einfach of.
(a) Am Ionbeschichtungsprozess ginn eng grouss Unzuel vun héichenergesche Partikelen, déi duerch d'Glühentladung generéiert ginn, benotzt fir e kathodesche Sputtereffekt op der Uewerfläch vum Substrat ze produzéieren, de Gas an den Ueleg op der Uewerfläch vum Substrat ze sputteren an ze botzen. Substrat fir d'Substratoberfläche ze purifizéieren bis de ganze Beschichtungsprozess fäerdeg ass.
(b) Am fréie Stadium vun der Beschichtung existéieren d'Sputteren an d'Oflagerung zesummen, déi eng Iwwergangsschicht vu Komponenten um Interface vun der Filmbasis oder eng Mëschung aus dem Filmmaterial an dem Basismaterial bilden, sougenannt "Pseudo-Diffusiounsschicht", déi effektiv d'Adhäsiounsleeschtung vum Film verbesseren kann.
(2) Gutt Wrap-around Eegeschafte.Ee Grond ass datt d'Beschichtungsmaterialatome ënner héijen Drock ioniséiert sinn a mat Gasmoleküle e puer Mol kollidéieren wärend dem Substratsprozess, sou datt d'Beschichtungsmaterial Ionen ronderëm de Substrat verspreet kënne ginn.Zousätzlech sinn d'ioniséiert Beschichtungsmaterial Atomer op der Uewerfläch vum Substrat ënner der Handlung vum elektresche Feld deposéiert, sou datt de ganze Substrat mat engem dënnen Film deposéiert gëtt, awer d'Verdampfungsbeschichtung kann dësen Effekt net erreechen.
(3) Déi héich Qualitéit vun der Beschichtung ass wéinst der Sputtering vu Kondensater verursaacht duerch de konstante Bombardement vum deposéierte Film mat positiven Ionen, wat d'Dicht vun der Beschichtungsschicht verbessert.
(4) Eng breet Auswiel u Beschichtungsmaterialien a Substrate kënnen op metalleschen oder net-metallesche Materialien beschichtet ginn.
(5) Am Verglach mat der chemescher Dampdepositioun (CVD) huet et eng méi niddereg Substrattemperatur, typesch ënner 500 ° C, awer seng Adhäsiounskraaft ass voll vergläichbar mat chemesche Dampdepositiounsfilmer.
(6) Héich Oflagerungsquote, séier Filmbildung, a kéint d'Dicke vu Filmer vun Zénger vun Nanometer bis Mikron beschichten.
D'Nodeeler vun der Ionbeschichtung sinn: d'Dicke vum Film kann net präzis kontrolléiert ginn;d'Konzentratioun vu Mängel ass héich wann eng fein Beschichtung erfuerderlech ass;a Gase ginn an d'Uewerfläch während der Beschichtung erakommen, wat d'Uewerflächeigenschaften änneren.A verschiddene Fäll ginn och Huelraim a Käre (manner wéi 1 nm) geformt.
Wat den Oflagerungsquote ugeet, ass d'Ionbeschichtung vergläichbar mat der Verdampungsmethod.Wat d'Filmqualitéit ugeet, sinn d'Filmer, déi duerch Ionbeschichtung produzéiert ginn, no bei oder besser wéi déi duerch Sputtering virbereet.
Post Zäit: Nov-08-2022