آئن ڪوٽنگ ٽيڪنالاجي

فلمن کي جمع ڪرڻ لاءِ ويڪيوم واپرائڻ واري طريقي جي مکيه خصوصيت اعليٰ جمع ڪرڻ جي شرح آهي. اسپٽرنگ طريقي جي مکيه خصوصيت موجود فلمي مواد جي وسيع رينج ۽ فلم جي پرت جي سٺي هڪجهڙائي آهي, پر جمع ڪرڻ جي شرح گهٽ آهي. آئن ڪوٽنگ هڪ طريقو آهي جيڪو انهن ٻن عملن کي گڏ ڪري ٿو.

آئن ڪوٽنگ جو اصول ۽ فلم ٺهڻ جون حالتون
آئن ڪوٽنگ جو ڪم ڪندڙ اصول تصوير ۾ ڏيکاريو ويو آهي. ويڪيوم چيمبر کي 10-4 Pa کان گهٽ دٻاءُ تي پمپ ڪيو ويندو آهي، ۽ پوءِ انرٽ گيس (مثال طور آرگن) سان 0.1 ~ 1 Pa جي دٻاءُ تي ڀريو ويندو آهي. سبسٽريٽ تي 5 kV تائين جي منفي DC وولٽيج لاڳو ڪرڻ کان پوءِ، سبسٽريٽ ۽ ڪروسيبل جي وچ ۾ هڪ گهٽ دٻاءُ وارو گيس گلو ڊسچارج پلازما زون قائم ڪيو ويندو آهي. انرٽ گيس آئن برقي ميدان ذريعي تيز ٿين ٿا ۽ سبسٽريٽ جي مٿاڇري تي بمباري ڪن ٿا، اهڙي طرح ورڪ پيس جي مٿاڇري کي صاف ڪن ٿا. هن صفائي جي عمل جي مڪمل ٿيڻ کان پوءِ، ڪوٽنگ جو عمل ڪروسيبل ۾ ڪوٽنگ ڪرڻ لاءِ مواد جي بخارات سان شروع ٿئي ٿو. بخارات وارا بخارات جا ذرڙا پلازما زون ۾ داخل ٿين ٿا ۽ الڳ ٿيل انرٽ مثبت آئنن ۽ اليڪٽرانن سان ٽڪرائجن ٿا، ۽ ڪجهه بخارات جا ذرڙا الڳ ٿي ويندا آهن ۽ ورڪ پيس ۽ ڪوٽنگ جي مٿاڇري تي برقي ميدان جي تيز رفتاري هيٺ بمباري ڪن ٿا. آئن پليٽنگ جي عمل ۾، سبسٽريٽ تي نه رڳو جمع ٿئي ٿو پر مثبت آئنن جو ڦاٽڻ پڻ ٿئي ٿو، تنهن ڪري پتلي فلم صرف تڏهن ٺهي سگهي ٿي جڏهن جمع ٿيڻ جو اثر ڦاٽڻ واري اثر کان وڌيڪ هجي.

آئن ڪوٽنگ جو عمل، جنهن ۾ سبسٽريٽ تي هميشه اعليٰ توانائي وارن آئنن سان بمباري ڪئي ويندي آهي، تمام صاف آهي ۽ اسپٽرنگ ۽ بخارات جي ڪوٽنگ جي مقابلي ۾ ڪيترائي فائدا آهن.

(1) مضبوط چپڪندڙ، ڪوٽنگ جي پرت آساني سان نه ڇٽيندي آهي.
(الف) آئن ڪوٽنگ جي عمل ۾، چمڪندڙ خارج ٿيڻ سان پيدا ٿيندڙ وڏي تعداد ۾ اعليٰ توانائي جا ذرڙا سبسٽريٽ جي مٿاڇري تي ڪيٿوڊڪ اسپٽرنگ اثر پيدا ڪرڻ لاءِ استعمال ڪيا ويندا آهن، سبسٽريٽ جي مٿاڇري تي جذب ٿيل گئس ۽ تيل کي اسپٽرنگ ۽ صاف ڪرڻ لاءِ سبسٽريٽ جي مٿاڇري کي صاف ڪرڻ لاءِ جيستائين پوري ڪوٽنگ جو عمل مڪمل نه ٿئي.
(ب) ڪوٽنگ جي شروعاتي مرحلي ۾، ڦڦڙ ۽ جمع گڏ رهندا آهن، جيڪي فلم بيس جي انٽرفيس تي اجزاء جي هڪ منتقلي پرت يا فلم مواد ۽ بنيادي مواد جي ميلاپ کي ٺاهي سگهن ٿا، جنهن کي "سيوڊو-ڊفيوژن پرت" سڏيو ويندو آهي، جيڪو فلم جي چپکڻ واري ڪارڪردگي کي مؤثر طريقي سان بهتر بڻائي سگهي ٿو.
(2) سٺيون لپيٽڻ واريون خاصيتون. هڪ سبب اهو آهي ته ڪوٽنگ مادي جا ايٽم تيز دٻاءُ هيٺ آئنائيز ٿين ٿا ۽ سبسٽريٽ تائين پهچڻ جي عمل دوران ڪيترائي ڀيرا گئس جي ماليڪيولن سان ٽڪرائجن ٿا، ته جيئن ڪوٽنگ مادي آئن سبسٽريٽ جي چوڌاري پکڙجي سگهن. ان کان علاوه، آئنائيز ڪوٽنگ مادي جا ايٽم برقي ميدان جي عمل هيٺ سبسٽريٽ جي مٿاڇري تي جمع ٿين ٿا، تنهنڪري سڄو سبسٽريٽ هڪ پتلي فلم سان جمع ٿئي ٿو، پر بخارات ڪوٽنگ اهو اثر حاصل نٿو ڪري سگهي.
(3) ڪوٽنگ جو اعليٰ معيار ڪنڊينسيٽ جي ڦاٽڻ جي ڪري آهي جيڪو جمع ٿيل فلم تي مثبت آئنن سان مسلسل بمباري جي ڪري ٿئي ٿو، جيڪو ڪوٽنگ پرت جي کثافت کي بهتر بڻائي ٿو.
(4) ڪوٽنگ مواد ۽ سبسٽريٽ جو هڪ وسيع انتخاب ڌاتو يا غير ڌاتو مواد تي ڪوٽنگ ڪري سگهجي ٿو.
(5) ڪيميڪل وانپ ڊپوزيشن (CVD) جي مقابلي ۾، ان جو سبسٽريٽ گرمي پد گهٽ آهي، عام طور تي 500 °C کان گهٽ، پر ان جي چپکڻ واري طاقت مڪمل طور تي ڪيميڪل وانپ ڊپوزيشن فلمن جي مقابلي ۾ آهي.
(6) اعليٰ جمع ڪرڻ جي شرح، تيز فلم ٺهڻ، ۽ ڏهه نانو ميٽرن کان مائڪرون تائين فلمن جي ٿلهي ڪوٽنگ ڪري سگهي ٿي.

آئن ڪوٽنگ جا نقصان هي آهن: فلم جي ٿلهي کي صحيح طور تي ڪنٽرول نه ٿو ڪري سگهجي؛ جڏهن نفيس ڪوٽنگ جي ضرورت هوندي آهي ته خرابين جو ڪنسنٽريشن وڌيڪ هوندو آهي؛ ۽ ڪوٽنگ دوران گيسون مٿاڇري ۾ داخل ٿينديون، جيڪي مٿاڇري جي خاصيتن کي تبديل ڪنديون. ڪجهه حالتن ۾، گفا ۽ نيوڪلئي (1 nm کان گهٽ) پڻ ٺهندا آهن.

جمع ڪرڻ جي شرح جي حوالي سان، آئن ڪوٽنگ بخارات جي طريقي سان مقابلو ڪري سگهجي ٿي. فلم جي معيار جي حوالي سان، آئن ڪوٽنگ ذريعي تيار ڪيل فلمون اسپٽرنگ ذريعي تيار ڪيل فلمن جي ويجهو يا ان کان بهتر آهن.