Вакуум бүрхүүл дэх өндөр давтамжийн болон дунд давтамжийн цахилгаан хангамжийн ялгаа

Магнетрон доторцацалт ба плазмын тунадасжилтпроцессуудад цахилгаан хангамжийн төрөл нь плазмын тогтвортой байдал, цацалтын үр ашиг, хальсны нягтрал, процессын давтагдах чадварыг тодорхойлоход чухал үүрэг гүйцэтгэдэг.

Хамгийн өргөн хэрэглэгддэг цахилгаан хангамжийн төрлүүд нь радио давтамжийн (RF) болон дунд давтамжийн (MF) цахилгаан хангамж бөгөөд эдгээр нь ажиллах давтамж, цэнэглэх механизм, зорилтот нийцтэй байдал, процессын гүйцэтгэл зэргээрээ мэдэгдэхүйц ялгаатай байдаг.

Бүрхүүлийн чанар, үйлдвэрлэлийн хүчин чадал, системийн тогтвортой байдлыг оновчтой болгохын тулд тохирох цахилгаан хангамжийг сонгох нь чухал юм.

RF тэжээлийн хангамж нь ихэвчлэн 13.56 МГц давтамжтайгаар ажилладаг бөгөөд голчлон SiO₂, Al₂O₃, болон TiO₂ зэрэг тусгаарлагч байг шүршихэд ашиглагддаг.

Техникийн онцлогууд:

Хувьсах цахилгаан оронгоор дамжуулан плазмын цэнэг алдалтыг тогтвортой байлгадаг

Тусгаарлагч гадаргуу дээр цэнэг хуримтлагдахаас сэргийлнэ

Диэлектрик хальс, оптик бүрхүүл болон функциональ исэл давхаргыг хуримтлуулахад тохиромжтой

Өндөр нарийвчлалтай хальсан хэрэглээнд зориулсан маш сайн плазмын жигд байдлыг хангадаг

Давуу талууд:

Цахилгаан дамжуулахгүй байтай нийцдэг

Тогтвортой гадагшлуулах болон жигд цацалт

Өндөр найрлагын хяналт болон дээд зэргийн оптик гүйцэтгэл

Хязгаарлалтууд:

Системийн өндөр өртөг

Бага чадлын нягтрал ба хязгаарлагдмал тунадасжуулалтын хурд

Нарийн төвөгтэй импеданс тохируулах шаардлага

Дунд давтамжийн (MF) тэжээлийн хангамж нь ихэвчлэн 10-200 кГц давтамжийн хүрээнд ажилладаг бөгөөд хос магнетрон систем болон реактив цацалтын процесст, ялангуяа металл болон металл-оксид бүрхүүлд өргөн хэрэглэгддэг.

Техникийн онцлогууд:

Бай гадаргуу дээрх цэнэгийн хуримтлалыг багасгаж, хоёр туйлт хувьсах цэнэг алдалтыг ашигладаг

Нуман хазайлтыг үр дүнтэй бууруулж, үйл явцын тогтвортой байдлыг сайжруулдаг

Өндөр эрчим хүчний нягтралыг дэмжиж, хуримтлалын түвшинг нэмэгдүүлдэг

Том талбайн бүрхүүл болон үйлдвэрлэлийн массын үйлдвэрлэлд тохиромжтой

Давуу талууд:

Өндөр тунадасжуулалтын хурд болон маш сайн нэвтрүүлэх чадвар

Цахилгаан дамжуулагч бай болон реактив цацалтад тохиромжтой

Нуман даралтыг сайжруулж, үйл ажиллагааны найдвартай байдлыг нэмэгдүүлэв

Хялбаршуулсан засвар үйлчилгээтэй, зардал багатай

Хязгаарлалтууд:

Өндөр дулаалгатай байнд тохиромжгүй

Плазмын жигд байдлыг хангахын тулд соронзон орон болон хийн урсгалын загвараар дамжуулан оновчлол шаардагдаж магадгүй

Өндөр тусгаарлагч материалын (оптик болон диэлектрик хальс) хувьд RF цахилгаан хангамж нь илүү тохиромжтой шийдэл хэвээр байна.

Металл бүрхүүл, том талбайд тунадасжих, реактив цацалт (TiN, ITO, CrOx) зэрэгт MF тэжээлийн хангамж нь илүү сайн дамжуулах чадвар болон зардлын хэмнэлтийг санал болгодог.

Өндөр хэмжээний үйлдвэрлэлийн үйлдвэрлэлд MF цахилгаан хангамж нь урт хугацааны үйл явцын тогтвортой байдлыг илүү сайн хангадаг

Өндөр зэрэглэлийн оптик болон нарийвчлалтай функциональ бүрхүүлийн хувьд RF тэжээлийн хангамж нь сайжруулсан жигд байдал болон найрлагын хяналтыг хангадаг.

RF болон MF цахилгаан хангамжууд нь вакуум бүрхүүлийн хэрэглээнд өвөрмөц давуу талуудыг санал болгодог бөгөөд тэдгээрийн тохиромжтой байдлыг зорилтот материалын шинж чанар, бүрхүүлийн төрөл, үйлдвэрлэлийн хүчин чадал, өртгийн хүчин чадлаар тодорхойлдог.

Аж үйлдвэрийн бүрхүүл хөгжихийн хэрээр MF цахилгаан хангамж нь өндөр үр ашигтай, өндөр тогтвортой массын үйлдвэрлэлийн гол сонголт болж байгаа бол RF цахилгаан хангамж нь оптик зэрэглэлийн болон диэлектрик хальсан хуримтлалд зайлшгүй шаардлагатай хэвээр байна.

Ирээдүйд эрлийз эрчим хүчний архитектур болон ухаалаг эрчим хүчний хяналтын технологиуд нь үйл явцын тогтвортой байдал болон бүрэх гүйцэтгэлийг цаашид сайжруулна гэж үзэж байна.

-Энэ нийтлэлийг нийтэлсэнвакуум бүрэх тоног төхөөрөмж үйлдвэрлэгч Zhenhua тоос сорогч