Charakteristike vun der Magnetron-Sputterbeschichtung
(3) Niddreger Energiesputterung. Wéinst der gerénger Kathodspannung, déi um Zil ugewannt gëtt, gëtt de Plasma vum Magnéitfeld am Raum bei der Kathod gebonnen, wouduerch d'Energie vun den héichenergiege geluedene Partikelen op der Säit vum Substrat, op deen d'Leit schéissen, verhënnert gëtt. Dofir ass de Grad vum Schued um Substrat, wéi zum Beispill um Hallefleederelement, duerch de Bombardement vu geluedene Partikelen, méi niddreg wéi dee vun anere Sputtermethoden.
(4) Niddreg Substrattemperatur. D'Sputterquote beim Magnetronsputteren ass héich, well d'Kathodenzil am Magnéitfeld an der Regioun, also der Zilentladungsbunn an engem klenge lokale Beräich, eng héich Elektronekonzentratioun huet. Am Magnéiteffekt ausserhalb vun der Regioun, besonnesch ewech vum Magnéitfeld vun der noer Substratoberfläch, ass d'Elektronekonzentratioun wéinst der Dispersioun vill méi niddreg a kann souguer méi niddreg sinn wéi beim Dipolsputteren (wéinst dem Ënnerscheed tëscht den zwou Aarbechtsgasdrock vun enger Gréisstenuerdnung). Dofir ass ënner Magnetronsputterbedingungen d'Konzentratioun vun Elektronen, déi d'Uewerfläch vum Substrat bombardéieren, vill méi niddreg wéi beim normale Diodensputteren, an eng exzessiv Erhéijung vun der Substrattemperatur gëtt vermeit wéinst der Reduktioun vun der Unzuel vun Elektronen, déi um Substrat afalen. Zousätzlech kann bei der Magnetron-Sputtermethod d'Anode vum Magnetron-Sputterapparat ronderëm d'Kathode placéiert sinn, an den Substrathalter kann och net geerdet sinn a sech a Suspensionspotenzial befannen, sou datt d'Elektronen net duerch den geerdeten Substrathalter passéiere kënnen a vun der Anode ewechfléissen, wouduerch d'Héichenergie-Elektronen, déi dat platéiert Substrat bombardéieren, reduzéiert ginn, wouduerch d'Erhéijung vun der Substrathëtzt, déi duerch d'Elektronen verursaacht gëtt, reduzéiert gëtt an d'Sekundärelektronebombardement vum Substrat, wat zu der Hëtztgeneratioun féiert, staark ofgeschwächt gëtt.
(5) Ongläichméisseg Ätzen vum Zil. Beim traditionelle Magnetron-Sputterzil gëtt en ongläichméissegt Magnéitfeld benotzt, sou datt de Plasma en lokalen Konvergenzeffekt produzéiert, wat zu enger grousser lokaler Positioun vun der Sputterätzquote beim Zil féiert, wat zu enger bedeitender ongläicher Ätzquote féiert. D'Auslastungsquote vum Zil ass am Allgemengen ongeféier 30%. Fir d'Auslastungsquote vum Zilmaterial ze verbesseren, kënnt Dir eng Rei vu Verbesserungsmoossnamen huelen, wéi zum Beispill d'Verbesserung vun der Form a Verdeelung vum Zilmagnetfeld, sou datt de Magnet an der Kathod vum Zil sech intern beweegt, asw.
Schwieregkeeten beim Sputteren vu magnesche Materialziler. Wann d'Sputterzil aus engem Material mat héijer magnescher Permeabilitéit gemaach ass, ginn d'magnéitesch Kraaftlinnen direkt duerch d'Innere vum Zil, wouduerch e magnéitescht Kuerzschlussphänomen entsteet, wat d'Magnetronenentladung schwéier mécht. Fir e Weltraummagnéitfeld ze generéieren, hunn d'Leit eng Rei vu Studien duerchgefouert, zum Beispill fir d'Magnéitfeld am Zilmaterial ze sättegen, sou datt vill Lächer am Zil entstinn, fir d'Generéierung vu méi Leckage duerch Temperaturerhéijungen am magnéiteschen Zil ze förderen oder d'magnéitesch Permeabilitéit vum Zilmaterial ze reduzéieren.
– Dësen Artikel gouf publizéiert vunHiersteller vu VakuumbeschichtungsmaschinnenGuangdong Zhenhua
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 01. Dezember 2023