D'Technologie vun der chemescher Vapor Deposition (CVD) ass eng Filmbildungstechnologie, déi Heizung, Plasmaverbesserung, Photoassistéiert an aner Mëttele benotzt, fir gasfërmeg Substanzen duerch chemesch Reaktiounen ënner normalen oder niddregen Drock fest Filmer op der Substratoberfläche ze produzéieren.
Allgemeng gëtt d'Reaktioun, bei där de Reaktant e Gas an ee vun de Produkter e Feststoff ass, CVD-Reaktioun genannt. Et gi vill Zorte vu Beschichtungen, déi duerch CVD-Reaktioun hiergestallt ginn, besonnesch am Hallefleiterprozess. Zum Beispill, am Hallefleiterberäich sinn d'Raffinéierung vu Réistoffer, d'Virbereedung vu qualitativ héichwäertege Hallefleiter-Eenkristallfilmer an de Wuesstum vu polykristalline an amorphe Filmer, vun elektroneschen Apparater bis integréiert Schaltungen, all mat der CVD-Technologie verbonnen. Zousätzlech ass d'Uewerflächenbehandlung vu Materialien vu Mënsche bevorzugt. Zum Beispill kënnen verschidde Materialien wéi Maschinnen, Reaktoren, Loftfaart, medizinesch a chemesch Ausrüstung benotzt ginn, fir funktionell Beschichtungen mat Korrosiounsbeständegkeet, Hëtzebeständegkeet, Verschleißbeständegkeet a Uewerflächenverstäerkung duerch d'CVD-Filmbildungsmethod no hiren ënnerschiddlechen Ufuerderungen hierzestellen.
—— Dësen Artikel gouf vu Guangdong Zhenhua publizéiert, engem Hiersteller vunVakuumbeschichtungsanlagen
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 04. Mäerz 2023