화학 기상 증착(CVD) 기술은 가열, 플라즈마 강화, 광 보조 및 기타 수단을 사용하여 정상 또는 저압에서 화학 반응을 통해 기체 물질이 기판 표면에 고체 필름을 생성하도록 하는 필름 형성 기술입니다.
일반적으로 반응물이 기체이고 생성물 중 하나가 고체인 반응을 CVD 반응이라고 합니다. CVD 반응을 통해 제조되는 코팅은 다양한 종류가 있으며, 특히 반도체 공정에서 그렇습니다. 예를 들어 반도체 분야에서는 원자재 정제, 고품질 반도체 단결정 박막 제조, 다결정 및 비정질 박막 성장(전자 소자부터 집적 회로까지)이 모두 CVD 기술과 관련이 있습니다. 또한, 재료의 표면 처리도 많은 관심을 받고 있습니다. 예를 들어, 기계, 반응기, 항공우주, 의료 및 화학 장비 등 다양한 소재에 CVD 박막 형성법을 사용하여 내식성, 내열성, 내마모성 및 표면 강화 기능을 갖춘 기능성 코팅을 제조할 수 있습니다.
—— 본 기사는 광동진화(Guangdong Zhenhua)에서 발행한 것입니다.진공 코팅 장비
게시 시간: 2023년 3월 4일