金属薄膜の抵抗温度係数は膜厚によって変化し、薄膜では負、厚膜では正となり、さらに厚い膜ではバルク材料と類似しているものの同一ではない。一般的に、膜厚が数十ナノメートルまで増加すると、抵抗温度係数は負から正に変化する。
さらに、蒸着速度は金属膜の抵抗温度係数にも影響します。蒸着速度が低い場合、膜層は緩く、電子が電位障壁を越えて移動したり、導電率を生み出す能力が弱く、酸化や吸着も起こるため、抵抗値が高くなり、抵抗温度係数は小さく、場合によっては負になります。蒸着速度が増加するにつれて、抵抗温度係数は小さい抵抗から大きい抵抗へと変化し、負から正になります。これは、蒸着速度が低い場合、半導体特性の酸化により抵抗温度係数が負の値になるためです。蒸着速度が高い場合、膜は金属特性を持ち、抵抗温度係数は正になります。
膜の構造は温度によって不可逆的に変化するため、蒸着中のコーティング層の温度によって膜の抵抗値および抵抗温度係数も変化し、膜が薄いほど変化は顕著になります。これは、基板上の近似的な島状または管状構造の膜の粒子が再蒸着および再分布することによって生じる化学変化、ならびに格子散乱、不純物散乱、格子欠陥散乱、および酸化の結果であると考えられます。
–この記事は以下によって公開されています真空コーティング機の製造r 広東振華
投稿日時：2024年1月18日