Добро пожаловать в компанию Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
single_banner

Характеристики температурного коэффициента металлопленочного резистора

Источник статьи: Zhenhua vacuum
Прочитано: 10
Опубликовано: 24.01.18

Температурный коэффициент сопротивления металлической пленки изменяется в зависимости от толщины пленки: для тонких пленок он отрицательный, для толстых — положительный, а для более толстых пленок он похож, но не идентичен коэффициенту сопротивления объемных материалов. В общем случае, температурный коэффициент сопротивления изменяется от отрицательного к положительному по мере увеличения толщины пленки до десятков нанометров.

d1a38f6404f22a2ff66a766ef1190ab

Кроме того, скорость испарения также влияет на температурный коэффициент сопротивления металлических пленок. При низкой скорости испарения пленочный слой получается рыхлым, электроны преодолевают его потенциальный барьер, а способность к проводимости слабая, что в сочетании с окислением и адсорбцией приводит к высокому значению сопротивления и малому или даже отрицательному температурному коэффициенту сопротивления. С увеличением скорости испарения температурный коэффициент сопротивления изменяется от небольшого значения к большому, от отрицательного к положительному. Это связано с тем, что низкая скорость испарения пленки приводит к окислению полупроводниковых свойств и отрицательному значению температурного коэффициента сопротивления. Пленки, полученные при высокой скорости испарения, как правило, обладают металлическими свойствами и имеют положительный температурный коэффициент сопротивления.

Поскольку структура пленки необратимо изменяется с температурой, сопротивление и температурный коэффициент сопротивления пленки также изменяются в зависимости от температуры покрывающего слоя в процессе испарения, причем чем тоньше пленка, тем резче изменение. Это можно рассматривать как результат химических изменений, вызванных повторным испарением и перераспределением частиц приблизительно островковой или трубчатой ​​структуры пленки на подложке, а также рассеянием на кристаллической решетке, рассеянием на примесях, рассеянием на дефектах решетки и окислением.

– Данная статья опубликованапроизводство вакуумных напыляемых машинр Гуандун Чжэньхуа


Дата публикации: 18 января 2024 г.