Efnafræðileg gufuútfellingartækni (CVD) er filmumyndunartækni sem notar hitun, plasmastyrkingu, ljósaaðstoð og aðrar aðferðir til að láta loftkennd efni mynda fastar filmur á yfirborði undirlagsins með efnahvörfum við eðlilegan eða lágan þrýsting.
Almennt er viðbrögð þar sem hvarfefnið er gas og ein af afurðunum er fast efni kallað CVD-viðbrögð. Margar gerðir af húðun eru framleiddar með CVD-viðbrögðum, sérstaklega í hálfleiðaraferlum. Til dæmis, á sviði hálfleiðara, tengjast hreinsun hráefna, framleiðsla á hágæða hálfleiðara einkristallafilmum og vöxtur fjölkristallaðra og ókristölluðra filma, allt frá rafeindatækjum til samþættra hringrása, CVD-tækni. Að auki er yfirborðsmeðhöndlun efna vinsæl meðal fólks. Til dæmis er hægt að nota ýmis efni eins og vélar, hvarfa, geimferðir, lækningatæki og efnafræðibúnað til að búa til virka húðun með tæringarþol, hitaþol, slitþol og yfirborðsstyrkingu með CVD-filmumyndunaraðferð í samræmi við mismunandi kröfur þeirra.
—— Þessi grein er gefin út af Guangdong Zhenhua, framleiðandatómarúmshúðunarbúnaður
Birtingartími: 4. mars 2023