કેમિકલ વેપર ડિપોઝિશન (CVD) ટેકનોલોજી એ ફિલ્મ બનાવવાની ટેકનોલોજી છે જે ગરમી, પ્લાઝ્મા એન્હાન્સમેન્ટ, ફોટો-સહાયિત અને અન્ય માધ્યમોનો ઉપયોગ કરીને વાયુયુક્ત પદાર્થોને સામાન્ય અથવા ઓછા દબાણ હેઠળ રાસાયણિક પ્રતિક્રિયા દ્વારા સબસ્ટ્રેટ સપાટી પર ઘન ફિલ્મો ઉત્પન્ન કરવા માટે બનાવે છે.
સામાન્ય રીતે, જે પ્રતિક્રિયામાં રિએક્ટન્ટ વાયુ હોય છે અને તેમાંથી એક ઉત્પાદન ઘન હોય છે તેને CVD પ્રતિક્રિયા કહેવામાં આવે છે. CVD પ્રતિક્રિયા દ્વારા ઘણા પ્રકારના કોટિંગ તૈયાર કરવામાં આવે છે, ખાસ કરીને સેમિકન્ડક્ટર પ્રક્રિયામાં. ઉદાહરણ તરીકે, સેમિકન્ડક્ટર ક્ષેત્રમાં, કાચા માલનું શુદ્ધિકરણ, ઉચ્ચ-ગુણવત્તાવાળા સેમિકન્ડક્ટર સિંગલ ક્રિસ્ટલ ફિલ્મોની તૈયારી, અને ઇલેક્ટ્રોનિક ઉપકરણોથી લઈને સંકલિત સર્કિટ સુધી, પોલીક્રિસ્ટલાઇન અને આકારહીન ફિલ્મોનો વિકાસ, આ બધું CVD ટેકનોલોજી સાથે સંબંધિત છે. વધુમાં, સામગ્રીની સપાટીની સારવાર લોકો દ્વારા પસંદ કરવામાં આવે છે. ઉદાહરણ તરીકે, મશીનરી, રિએક્ટર, એરોસ્પેસ, તબીબી અને રાસાયણિક સાધનો જેવી વિવિધ સામગ્રીનો ઉપયોગ તેમની વિવિધ જરૂરિયાતો અનુસાર CVD ફિલ્મ રચના પદ્ધતિ દ્વારા કાટ પ્રતિકાર, ગરમી પ્રતિકાર, વસ્ત્રો પ્રતિકાર અને સપાટી મજબૂતીકરણ સાથે કાર્યાત્મક કોટિંગ તૈયાર કરવા માટે કરી શકાય છે.
—— આ લેખ ગુઆંગડોંગ ઝેન્હુઆ દ્વારા પ્રકાશિત કરવામાં આવ્યો છે, જે એક ઉત્પાદક છેવેક્યુમ કોટિંગ સાધનો
પોસ્ટ સમય: માર્ચ-૦૪-૨૦૨૩