Co crecente desenvolvemento da tecnoloxía de revestimento por pulverización catódica, especialmente a tecnoloxía de revestimento por pulverización catódica magnetrón, na actualidade, calquera material pode ser preparado mediante unha película obxectivo mediante bombardeo iónico. Debido a que o obxectivo se pulveriza no proceso de revestimento sobre algún tipo de substrato, a calidade da película pulverizada ten un impacto importante, polo que os requisitos do material obxectivo tamén son máis estritos. Na selección do material obxectivo, ademais do uso da propia película, tamén se deben ter en conta as seguintes cuestións:
1. O material obxectivo debe ter unha boa resistencia mecánica e estabilidade química despois da formación da película
2. A combinación de obxectivo e substrato debe ser forte; se non, débese tomar en conta que o substrato ten unha boa combinación de material de membrana, primeiro pulverizando unha película base e despois preparando a capa de membrana requirida.
3 como material de membrana de pulverización catódica de reacción debe ser doado de reaccionar co gas para xerar compostos de membrana; 4.
4. Baixo a premisa de cumprir os requisitos de rendemento da membrana, a diferenza entre o coeficiente de expansión térmica do material obxectivo e o substrato é o máis pequena posible, para minimizar o efecto da tensión térmica na membrana pulverizada.
A influencia da tensión térmica da película de pulverización catódica; 5.
5. Segundo os requisitos de uso e rendemento da membrana, o material obxectivo debe cumprir a pureza, o contido de impurezas, a uniformidade dos compoñentes, a precisión de mecanizado e outros requisitos técnicos.
–Este artigo foi publicado porfabricante de máquinas de revestimento ao baleiroGuangdong Zhenhua
Data de publicación: 21 de decembro de 2023