Mit der zunehmenden Entwicklung der Sputtertechnologie, insbesondere der Magnetron-Sputtertechnologie, lassen sich heutzutage nahezu alle Materialien mittels Ionenbeschuss auf Targetfilme abscheiden. Da das Target während des Beschichtungsprozesses auf ein Substrat gesputtert wird, hat die Qualität des abgeschiedenen Films einen wesentlichen Einfluss. Daher sind die Anforderungen an das Targetmaterial entsprechend hoch. Bei der Auswahl des Targetmaterials sollten neben der Filmauswahl selbst auch folgende Aspekte berücksichtigt werden:
1. Das Zielmaterial sollte nach der Filmbildung eine gute mechanische Festigkeit und chemische Stabilität aufweisen.
2. Die Kombination von Target und Substrat muss stark sein, andernfalls sollte man ein Substrat wählen, das eine gute Verbindung mit dem Membranmaterial aufweist, und zunächst einen Basisfilm aufsprühen und anschließend die erforderliche Membranschicht herstellen.
3. Als Reaktionssputtermembranmaterial muss das Material leicht mit dem Gas reagieren, um Verbindungen in der Membran zu erzeugen; 4.
4. Unter der Voraussetzung, dass die Anforderungen an die Membranleistung erfüllt werden, ist der Unterschied zwischen dem Wärmeausdehnungskoeffizienten des Zielmaterials und des Substrats so gering wie möglich, um den Einfluss der thermischen Spannung auf die gesputterte Membran zu minimieren.
Der Einfluss der thermischen Spannung des Sputterfilms; 5.
5. Entsprechend den Nutzungs- und Leistungsanforderungen der Membran muss das Zielmaterial die Anforderungen an Reinheit, Verunreinigungsgehalt, Komponentenhomogenität, Bearbeitungsgenauigkeit und andere technische Anforderungen erfüllen.
–Dieser Artikel wurde veröffentlicht vonHersteller von VakuumbeschichtungsmaschinenGuangdong Zhenhua
Veröffentlichungsdatum: 21. Dezember 2023