Özellikle manyetik püskürtme kaplama teknolojisi olmak üzere, püskürtme kaplama teknolojisinin giderek gelişmesiyle birlikte, günümüzde herhangi bir malzeme için iyon bombardımanı ile hedef film hazırlanabilmektedir. Hedef, kaplama işlemi sırasında bir tür alt tabakaya püskürtüldüğü için, püskürtülen filmin kalitesi önemli bir etkiye sahiptir; bu nedenle, hedef malzeme gereksinimleri de daha katıdır. Hedef malzeme seçiminde, filmin kendisinin seçilmesinin yanı sıra, aşağıdaki hususlar da dikkate alınmalıdır:
1. Hedef malzemenin, film oluşumundan sonra iyi mekanik dayanıma ve kimyasal kararlılığa sahip olması gerekir.
2. Hedef ve alt tabaka kombinasyonu güçlü olmalıdır; aksi takdirde, alt tabakanın iyi bir membran malzeme kombinasyonuna sahip olması gerekir. Önce bir taban film püskürtülmeli, ardından gerekli membran tabakası hazırlanmalıdır.
3. Reaksiyon püskürtme membran malzemesi, gazla kolayca reaksiyona girerek bileşik membran oluşturmalıdır; 4.
4. Membran performans gereksinimlerini karşılamak koşuluyla, püskürtme yöntemiyle üretilen membrana termal gerilmenin etkisini en aza indirmek için hedef malzeme ile alt tabakanın termal genleşme katsayıları arasındaki fark mümkün olduğunca küçük tutulmalıdır.
Püskürtme filminin termal geriliminin etkisi; 5.
5. Membranın kullanım ve performans gereksinimlerine göre, hedef malzemenin saflık, safsızlık içeriği, bileşen homojenliği, işleme hassasiyeti ve diğer teknik gereksinimleri karşılaması gerekir.
Bu makale şu kuruluş tarafından yayınlanmıştır:vakum kaplama makinesi üreticisiGuangdong Zhenhua
Yayın tarihi: 21 Aralık 2023