스퍼터링 코팅 기술, 특히 마그네트론 스퍼터링 코팅 기술의 발전으로 현재는 이온 충격 타겟 코팅을 통해 모든 재료에 대해 코팅을 제작할 수 있습니다. 코팅 과정에서 타겟이 스퍼터링되어 기판에 증착되기 때문에 스퍼터링된 박막의 품질이 매우 중요하며, 따라서 타겟 재료에 대한 요구 사항도 더욱 엄격해지고 있습니다. 타겟 재료를 선택할 때에는 박막 자체의 용도뿐만 아니라 다음과 같은 사항들도 고려해야 합니다.
1. 대상 물질은 필름 형성 후 우수한 기계적 강도와 화학적 안정성을 가져야 합니다.
2. 타겟과 기판의 조합이 강력해야 하며, 그렇지 않을 경우 기판과 막 재료의 조합이 양호한 것을 선택하여 먼저 기저막을 스퍼터링한 후 필요한 막층을 준비해야 합니다.
3. 반응성 스퍼터링 멤브레인 소재는 가스와 쉽게 반응하여 화합물 멤브레인을 생성해야 합니다. 4.
4. 막 성능 요구 사항을 충족한다는 전제 하에, 목표 물질과 기판의 열팽창 계수 차이가 가능한 한 작아야 하며, 이는 스퍼터링된 막에 대한 열 응력의 영향을 최소화하기 위함이다.
스퍼터링 박막의 열응력의 영향; 5.
5. 멤브레인의 사용 및 성능 요구 사항에 따라 대상 재료는 순도, 불순물 함량, 성분 균일성, 가공 정밀도 및 기타 기술 요구 사항을 충족해야 합니다.
이 기사는 다음에서 발표했습니다.진공 코팅기 제조업체광둥진화
게시 시간: 2023년 12월 21일