Con el creciente desarrollo de la tecnología de recubrimiento por pulverización catódica, especialmente la tecnología de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón, actualmente se puede preparar cualquier película objetivo mediante bombardeo iónico para cualquier material. Dado que el objetivo se pulveriza durante el proceso de recubrimiento sobre algún tipo de sustrato, la calidad de la película pulverizada tiene un impacto importante; por lo tanto, los requisitos para el material objetivo son cada vez más estrictos. Al seleccionar el material objetivo, además de elegir la película en sí, también se deben considerar los siguientes aspectos:
1. El material objetivo debe tener buena resistencia mecánica y estabilidad química después de la formación de la película.
2. La combinación de objetivo y sustrato debe ser fuerte; de lo contrario, se debe tomar con el sustrato que tenga una buena combinación de material de membrana, primero pulverizando una película base y luego preparando la capa de membrana requerida.
3. Como material de membrana de pulverización catódica reactiva, debe reaccionar fácilmente con el gas para generar compuestos de membrana; 4.
4. Partiendo de la premisa de cumplir con los requisitos de rendimiento de la membrana, la diferencia entre el coeficiente de expansión térmica del material objetivo y el sustrato es lo más pequeña posible, para minimizar el efecto de la tensión térmica sobre la membrana depositada por pulverización catódica.
La influencia del estrés térmico de la película de pulverización catódica; 5.
5. De acuerdo con los requisitos de uso y rendimiento de la membrana, el material objetivo debe cumplir con los requisitos técnicos de pureza, contenido de impurezas, uniformidad de componentes, precisión de mecanizado y otros.
–Este artículo es publicado porfabricante de máquinas de recubrimiento al vacíoGuangdong Zhenhua
Fecha de publicación: 21 de diciembre de 2023