Avec le développement croissant des technologies de pulvérisation cathodique, et notamment de la pulvérisation magnétron, il est désormais possible de déposer des films sur des cibles par bombardement ionique, quel que soit le matériau. La qualité du film déposé étant cruciale lors de la pulvérisation de la cible sur un substrat, les exigences relatives au matériau cible sont donc plus strictes. Outre les propriétés du film lui-même, le choix du matériau cible doit également prendre en compte les points suivants :
1. Le matériau cible doit présenter une bonne résistance mécanique et une bonne stabilité chimique après la formation du film.
2. La combinaison cible-substrat doit être forte, sinon il faut utiliser un substrat ayant une bonne combinaison de matériau de membrane, en pulvérisant d'abord un film de base puis en préparant la couche de membrane requise.
3. Le matériau de la membrane de pulvérisation réactive doit réagir facilement avec le gaz pour générer des composés de membrane ; 4.
4. Sous réserve du respect des exigences de performance de la membrane, la différence entre le coefficient de dilatation thermique du matériau cible et celui du substrat est aussi faible que possible, afin de minimiser l'effet des contraintes thermiques sur la membrane pulvérisée.
L'influence des contraintes thermiques du film de pulvérisation cathodique ; 5.
5. En fonction des exigences d'utilisation et de performance de la membrane, le matériau cible doit répondre aux exigences techniques de pureté, de teneur en impuretés, d'uniformité des composants, de précision d'usinage et autres.
–Cet article est publié parfabricant de machines de revêtement sous videGuangdong Zhenhua
Date de publication : 21 décembre 2023