Com o crescente desenvolvimento da tecnologia de revestimento por pulverização catódica, especialmente a tecnologia de revestimento por pulverização catódica magnetron, atualmente é possível preparar filmes de alvo para qualquer material por meio de bombardeio iônico. Como o alvo é pulverizado durante o processo de revestimento em algum tipo de substrato, a qualidade do filme depositado tem um impacto significativo. Portanto, os requisitos para o material do alvo também são mais rigorosos. Na seleção do material do alvo, além da própria utilização do filme, também é preciso considerar os seguintes aspectos:
1. O material alvo deve apresentar boa resistência mecânica e estabilidade química após a formação do filme.
2. A combinação entre alvo e substrato deve ser forte; caso contrário, deve-se utilizar um substrato que possua boa compatibilidade com o material da membrana, primeiro depositando uma camada base por pulverização catódica e, em seguida, preparando a camada de membrana desejada.
3. Como material de membrana de pulverização catódica reativa, deve reagir facilmente com o gás para gerar compostos na membrana; 4.
4. Sob a premissa de atender aos requisitos de desempenho da membrana, a diferença entre o coeficiente de expansão térmica do material alvo e do substrato deve ser a menor possível, de modo a minimizar o efeito da tensão térmica na membrana depositada por pulverização catódica.
A influência do estresse térmico do filme de pulverização catódica; 5.
5. De acordo com os requisitos de uso e desempenho da membrana, o material alvo deve atender aos requisitos técnicos de pureza, teor de impurezas, uniformidade dos componentes, precisão de usinagem e outros.
–Este artigo foi publicado porfabricante de máquinas de revestimento a vácuoGuangdongZhenhua
Data da publicação: 21/12/2023