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Nouvelles

  • Caractéristiques des chapitres 2 de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron

    Caractéristiques des chapitres 2 de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron

    Dans l'article précédent, nous avons abordé les caractéristiques des revêtements de pulvérisation cathodique, et cet article les détaillera également. (4) La température du substrat est basse. La vitesse de pulvérisation cathodique est élevée car la concentration en électrons est élevée.
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  • Caractéristiques des chapitres 1 de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron

    Caractéristiques des chapitres 1 de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron

    Comparé à d'autres technologies de revêtement, le revêtement par pulvérisation cathodique présente les caractéristiques importantes suivantes : les paramètres de travail ont une large plage de réglage dynamique, la vitesse de dépôt du revêtement et l'épaisseur (l'état de la zone de revêtement) sont faciles à contrôler et il n'y a aucune restriction de conception.
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  • Comment fonctionnent les nettoyeurs plasma : révolutionner la technologie de nettoyage

    Dans un monde en constante évolution technologique, le principe du nettoyage plasma a révolutionné le secteur. Cette technologie révolutionnaire a gagné en popularité dans tous les secteurs grâce à son efficacité et à son efficience. Aujourd'hui, nous nous penchons sur les principes des nettoyeurs plasma et sur leur fonctionnement…
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  • Caractérisation de films minces composés préparés par pulvérisation magnétron réactive

    Caractérisation de films minces composés préparés par pulvérisation magnétron réactive

    La pulvérisation magnétron réactive consiste à introduire un gaz réactif pour réagir avec les particules pulvérisées afin de former un film composite. Elle peut alimenter simultanément le gaz réactif pour réagir avec la cible composite à pulvériser, et également avec…
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  • Introduction au dépôt direct par faisceau d'ions

    Introduction au dépôt direct par faisceau d'ions

    Le dépôt par faisceau d'ions direct est un type de dépôt assisté par faisceau d'ions. Il s'agit d'un dépôt sans séparation de masse. Cette technique a été utilisée pour la première fois en 1971 pour produire des films de carbone de type diamant, selon le principe selon lequel la partie principale de la cathode et de l'anode de l'électrode est constituée de deux couches de carbone.
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  • Technologie de pulvérisation cathodique sous vide : progrès et perspectives d'avenir

    Ces dernières années, la pulvérisation cathodique sous vide est devenue un procédé clé dans de nombreux secteurs, de l'électronique à l'optique. Cette technique sophistiquée permet le dépôt de couches minces sur différents substrats, améliorant ainsi les propriétés des matériaux et les surfaces fonctionnelles. La pulvérisation cathodique sous vide a...
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  • coût de la machine de revêtement PVD

    Les revêtements PVD (dépôt physique en phase vapeur) offrent des solutions de revêtement durables et de haute qualité pour améliorer les performances et l'apparence d'une grande variété de matériaux. Des pièces automobiles aux appareils médicaux, en passant par les articles ménagers et l'électronique, les revêtements PVD offrent une excellente couche protectrice…
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  • guide d'achat de la technologie du vide et du revêtement

    Alors que le monde s'appuie de plus en plus sur les technologies de pointe, la demande en technologies du vide et en solutions de revêtement ne cesse de croître. Des secteurs comme l'électronique, l'aérospatiale, l'automobile et le médical recherchent constamment des innovations de pointe pour améliorer leurs produits et leurs procédés. Cependant…
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  • dureté du saphir

    En explorant le monde des pierres précieuses, nous découvrons une pierre rare et magnifique, d'une dureté extraordinaire : le saphir. Cette pierre précieuse exquise est depuis longtemps recherchée pour sa beauté captivante et sa durabilité. Aujourd'hui, nous explorons la qualité profonde qui distingue le saphir…
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  • avantages du PVD

    Durabilité extrême, esthétique améliorée et rentabilité accrue : Dans le monde d'aujourd'hui, où la technologie progresse à un rythme sans précédent, les industries de tous types recherchent constamment des moyens innovants pour améliorer leurs produits et leurs processus. Le dépôt physique en phase vapeur (PV...
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  • types de vannes à vide

    Dans les applications industrielles et scientifiques, les vannes à vide jouent un rôle essentiel dans le contrôle du débit des gaz et des liquides. Elles garantissent la précision et la fiabilité des systèmes de vide, ce qui en fait des composants indispensables dans de nombreux secteurs. Types de vannes à vide : Présentation 1. Vanne à guillotine…
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  • ligne de revêtement horizontale

    Introduction Bienvenue sur notre blogue où nous nous plongeons dans l'univers des lignes de peinture horizontales et explorons leur potentiel considérable dans divers secteurs. Dans cet article, nous abordons les avantages et les fonctionnalités d'une ligne de peinture horizontale et nous nous concentrons sur la mise en œuvre de cet avantage…
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  • principe de fonctionnement du magnétron

    Dans le domaine technologique, certaines inventions ont joué un rôle clé dans la transformation du monde tel que nous le connaissons. L'une d'elles est le magnétron, un composant essentiel des fours à micro-ondes. Le fonctionnement d'un magnétron mérite d'être exploré, car il révèle les mécanismes à l'origine de cet appareil révolutionnaire. En matière de…
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  • Introduction au revêtement sous vide

    Introduction au revêtement sous vide

    Le revêtement par évaporation sous vide (appelé revêtement par évaporation) se fait dans un environnement sous vide, le matériau du film chauffé par évaporateur pour le rendre gazéifié, l'évaporation du matériau du film du flux de particules directement sur le substrat et le dépôt du substrat, la formation de la technologie du film solide...
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  • Présentation du revêtement ionique par arc cathodique sous vide

    Présentation du revêtement ionique par arc cathodique sous vide

    Le revêtement ionique à arc cathodique sous vide est appelé « revêtement à arc sous vide ». Si deux ou plusieurs sources d'évaporation à arc sous vide (appelées sources d'arc) sont utilisées, on parle de revêtement ionique multi-arcs. Il s'agit d'une technologie de revêtement ionique sous vide qui utilise une décharge d'arc sous vide pour l'évaporation.
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