კეთილი იყოს თქვენი მობრძანება Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd-ში.
სიახლეები
-
გაფრქვევით საფარის მანქანის ტექნიკური მახასიათებლები
ვაკუუმური მაგნეტრონული გაფრქვევა განსაკუთრებით შესაფერისია რეაქტიული დეპონირების საფარებისთვის. სინამდვილეში, ამ პროცესით შესაძლებელია ნებისმიერი ოქსიდის, კარბიდის და ნიტრიდის მასალების თხელი ფენების დეპონირება. გარდა ამისა, პროცესი ასევე განსაკუთრებით შესაფერისია მრავალშრიანი ფენის სტრუქტურების დეპონირებისთვის, მათ შორის ოპტიკურ...დაწვრილებით -
DLC ტექნოლოგიის შესავალი
„DLC არის სიტყვა „ალმასის მსგავსი ნახშირბადის“ აბრევიატურა, ნივთიერება, რომელიც შედგება ნახშირბადის ელემენტებისგან, ბუნებით მსგავსია ალმასის და აქვს გრაფიტის ატომების სტრუქტურა. ალმასის მსგავსი ნახშირბადი (DLC) არის ამორფული ფენა, რომელმაც ტრიბოლოგიური საზოგადოების ყურადღება მიიპყრო...“დაწვრილებით -
ალმასის ფირების თვისებები და გამოყენება, თავი 2
ალმასის ფირების ელექტრული თვისებები და გამოყენება. ბრილიანტს ასევე აქვს აკრძალული გამტარობა, მატარებლების მაღალი მობილურობა, კარგი თბოგამტარობა, გაჯერების მაღალი ელექტრონების დრიფტის სიჩქარე, მცირე დიელექტრიკული მუდმივა, მაღალი დაშლის ძაბვა და ელექტრონული ხვრელების მობილურობა და ა.შ. მისი დაშლის ძაბვა არის ორი ან...დაწვრილებით -
ალმასის ფირების თვისებები და გამოყენება თავი 1
ძლიერი ქიმიური ბმით წარმოქმნილ ბრილიანტს განსაკუთრებული მექანიკური და ელასტიური თვისებები აქვს. ბრილიანტის სიმტკიცე, სიმკვრივე და თბოგამტარობა ყველაზე მაღალია ცნობილ მასალებს შორის. ბრილიანტს ასევე აქვს ელასტიურობის ყველაზე მაღალი მოდული ნებისმიერ მასალას შორის. ბრილიანტის ხახუნის კოეფიციენტი ...დაწვრილებით -
მზის უჯრედების ტიპი, თავი 2
გალიუმის არსენიდის (GaAs) Ⅲ ~ V ნაერთის ბატარეის გარდაქმნის ეფექტურობა 28%-მდეა, GaAs ნაერთის მასალას აქვს ძალიან იდეალური ოპტიკური ზოლის უფსკრული, ასევე მაღალი შთანთქმის ეფექტურობა, ძლიერი წინააღმდეგობა დასხივების მიმართ, სითბოს არამგრძნობიარე, შესაფერისია მაღალი ეფექტურობის ერთგადაკვეთიანი ბატარეების წარმოებისთვის...დაწვრილებით -
მზის უჯრედების ტიპი თავი 1
მზის უჯრედები შემუშავდა მესამე თაობამდე, რომელთაგან პირველი თაობაა მონოკრისტალური სილიციუმის მზის უჯრედები, მეორე თაობაა ამორფული სილიციუმის და პოლიკრისტალური სილიციუმის მზის უჯრედები, ხოლო მესამე თაობაა სპილენძ-ფოლად-გალიუმ-სელენიდი (CIGS), როგორც...დაწვრილებით -
ფირის ფენის მექანიკური სიმტკიცის გაუმჯობესების პროცესის გზები
მემბრანული ფენის მექანიკურ თვისებებზე გავლენას ახდენს ადჰეზია, სტრესი, აგრეგაციის სიმკვრივე და ა.შ. მემბრანული ფენის მასალასა და პროცესის ფაქტორებს შორის ურთიერთკავშირიდან ჩანს, რომ თუ გვსურს მემბრანული ფენის მექანიკური სიმტკიცის გაუმჯობესება, ყურადღება უნდა გავამახვილოთ...დაწვრილებით -
ქიმიური ორთქლის დეპონირება
ეპიტაქსიური ზრდა, რომელსაც ხშირად ეპიტაქსიასაც უწოდებენ, ნახევარგამტარული მასალებისა და მოწყობილობების დამზადების ერთ-ერთი უმნიშვნელოვანესი პროცესია. ე.წ. ეპიტაქსიური ზრდა გარკვეულ პირობებში ხდება ერთკრისტალურ სუბსტრატში, ერთი პროდუქტის ფირის პროცესის ფენის ზრდაზე, ტ...დაწვრილებით -
გულ-სისხლძარღვთა დაავადებების ტექნოლოგიის სახეები
ზოგადად, გულ-სისხლძარღვთა დაავადება შეიძლება დაიყოს ორ ტიპად: ერთი არის ერთპროდუქტის სუბსტრატზე ერთკრისტალური ეპიტაქსიური ფენის ორთქლის დეპონირება, რომელიც ვიწროდ არის ცნობილი, როგორც გულ-სისხლძარღვთა დაავადება; მეორე არის თხელი ფენების დეპონირება სუბსტრატზე, მათ შორის მრავალპროდუქტიანი და ამორფული ფენების. ტ...დაწვრილებით -
ოპტიკური თხელი ფირების გამტარობისა და არეკვლის სპექტრები და ფერი თავი 2
აქედან ჩვენ ვაპირებთ განვმარტოთ: (1) თხელი ფირის მოწყობილობები, გამტარობის, არეკვლის სპექტრები და ფერის შესაბამისი ურთიერთობა, ანუ ფერის სპექტრი; პირიქით, ეს ურთიერთობა „უნიკალური არ არის“, რაც გამოიხატება ფერის მრავალსპექტრად. ამიტომ, ფილმი...დაწვრილებით -
ოპტიკური თხელი ფირების გამტარობისა და არეკვლის სპექტრები და ფერი თავი 1
ოპტიკური თხელი ფირების გამტარობისა და არეკვლის სპექტრები და ფერები თხელი ფირების მოწყობილობების ორი ერთდროულად არსებული მახასიათებელია. 1. გამტარობისა და არეკვლის სპექტრი არის ოპტიკური თხელი ფირების მოწყობილობების არეკვლისა და გამტარობის ურთიერთკავშირი ტალღის სიგრძესთან. ეს არის...დაწვრილებით -
AF თხელი ფირის აორთქლების ოპტიკური PVD ვაკუუმური საფარის მანქანა
AF თხელი ფენის აორთქლების ოპტიკური PVD ვაკუუმური საფარის დანადგარი შექმნილია მობილურ მოწყობილობებზე თხელი ფენის საფარის დასატანად ფიზიკური ორთქლის დეპონირების (PVD) პროცესის გამოყენებით. პროცესი გულისხმობს ვაკუუმური გარემოს შექმნას საფარის კამერაში, სადაც მყარი მასალები აორთქლდება და შემდეგ დეპონირდება...დაწვრილებით -
ალუმინის ვერცხლის ვაკუუმური საფარით დაფარული სარკის წარმოების მანქანა
ალუმინის ვერცხლის ვაკუუმური საფარით დაფარული სარკის დამამზადებელმა მანქანამ რევოლუცია მოახდინა სარკეების წარმოების ინდუსტრიაში თავისი მოწინავე ტექნოლოგიითა და ზუსტი ინჟინერიით. ეს ულტრათანამედროვე მანქანა შექმნილია მინის ზედაპირზე ალუმინის ვერცხლის თხელი ფენის დასატანად, რაც ქმნის მაღალი ხარისხის...დაწვრილებით -
ოპტიკური ვაკუუმური საფარის მანქანა
ოპტიკური ვაკუუმური მეტალიზატორი არის უახლესი ტექნოლოგია, რომელმაც რევოლუცია მოახდინა ზედაპირის საფარის ინდუსტრიაში. ეს მოწინავე მანქანა იყენებს ოპტიკური ვაკუუმური მეტალიზაციის პროცესს, რათა სხვადასხვა სუბსტრატზე წაუსვას ლითონის თხელი ფენა, რაც ქმნის მაღალამრეკლავ და გამძლე ზედაპირს...დაწვრილებით -
პლაზმის გაძლიერებული ქიმიური ორთქლის დეპონირება, თავი 2
ქიმიური ელემენტების უმეტესობა შეიძლება აორთქლდეს ქიმიურ ჯგუფებთან შერწყმით, მაგ. Si რეაგირებს H-თან SiH4-ის წარმოქმნით, ხოლო Al უერთდება CH3-ს Al(CH3)-ის წარმოქმნით. თერმული CVD პროცესში, ზემოთ ჩამოთვლილი აირები შთანთქავენ გარკვეულ რაოდენობას თერმული ენერგიისა, როდესაც ისინი გაცხელებულ სუბსტრატში გადიან და წარმოქმნიან...დაწვრილებით
