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Nouvelles

  • Caractéristiques techniques de la machine de revêtement par pulvérisation cathodique

    La pulvérisation cathodique magnétronique sous vide est particulièrement adaptée aux revêtements par dépôt réactif. En effet, ce procédé permet de déposer des couches minces de tous types d'oxydes, de carbures et de nitrures. De plus, il est particulièrement adapté au dépôt de structures multicouches, notamment optiques.
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  • Introduction à la technologie DLC

    « DLC est l’abréviation de « DIAMOND-LIKE CARBON », une substance composée d’éléments carbonés, semblable au diamant et possédant la structure des atomes de graphite. Le carbone de type diamant (DLC) est un film amorphe qui a suscité l’intérêt de la communauté tribologique… »
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  • Propriétés et applications des films de diamant, chapitre 2

    Propriétés et applications des films de diamant, chapitre 2

    Propriétés électriques et applications des films de diamant : Le diamant présente également une bande interdite, une mobilité élevée des porteurs, une bonne conductivité thermique, un taux de dérive électronique à saturation élevé, une faible constante diélectrique, une tension de claquage et une mobilité électron-trou élevées, etc. Sa tension de claquage est de deux ou…
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  • Propriétés et applications des films de diamant, chapitre 1

    Propriétés et applications des films de diamant, chapitre 1

    Le diamant, formé par de fortes liaisons chimiques, possède des propriétés mécaniques et élastiques exceptionnelles. Sa dureté, sa densité et sa conductivité thermique sont les plus élevées parmi les matériaux connus. Le diamant présente également le module d'élasticité le plus élevé de tous les matériaux. Le coefficient de frottement du diamant…
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  • Cellules solaires type chapitre 2

    Cellules solaires type chapitre 2

    L'arséniure de gallium (GaAs) III ~ V, matériau composite, présente un rendement de conversion pouvant atteindre 28 %. Ce matériau possède une bande interdite optique idéale, ainsi qu'une efficacité d'absorption élevée, une forte résistance aux radiations et une insensibilité à la chaleur, ce qui le rend adapté à la fabrication de batteries monojonctions à haut rendement.
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  • Cellules solaires type chapitre 1

    Cellules solaires type chapitre 1

    Les cellules solaires ont évolué jusqu'à la troisième génération, la première étant constituée de cellules solaires en silicium monocristallin, la deuxième de cellules solaires en silicium amorphe et en silicium polycristallin, et la troisième génération étant représentée par les cellules en cuivre-acier-gallium-séléniure (CIGS).
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  • Procédés permettant d'améliorer la résistance mécanique de la couche de film

    Procédés permettant d'améliorer la résistance mécanique de la couche de film

    Les propriétés mécaniques de la couche membranaire sont influencées par l'adhérence, les contraintes, la densité d'agrégation, etc. L'analyse de la relation entre le matériau de la couche membranaire et les facteurs de procédé montre que, pour améliorer sa résistance mécanique, il convient de se concentrer sur…
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  • Dépôt chimique en phase vapeur

    Dépôt chimique en phase vapeur

    La croissance épitaxiale, souvent appelée épitaxie, est l'un des procédés les plus importants dans la fabrication des matériaux et dispositifs semi-conducteurs. Ce procédé consiste, dans certaines conditions, à la croissance d'une couche mince d'un seul film sur un substrat monocristallin.
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  • Types de technologie CVD

    Types de technologie CVD

    De manière générale, on peut distinguer deux types de CVD : le dépôt en phase vapeur d'un seul produit sur un substrat, formant une couche épitaxiale monocristalline (CVD stricte) ; et le dépôt de couches minces sur un substrat, incluant les couches multicouches et les couches amorphes.
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  • Spectres de transmission et de réflectance et couleur des couches minces optiques Chapitre 2

    Nous allons maintenant clarifier les points suivants : (1) concernant les dispositifs à couches minces, la transmittance, les spectres de réflectance et la couleur, ainsi que la relation correspondante entre ces paramètres (c’est-à-dire le spectre d’une couleur) ; or, cette relation n’est pas univoque et se manifeste par un spectre de couleurs multiple. Par conséquent, le film…
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  • Spectres de transmission et de réflectance et couleur des couches minces optiques Chapitre 1

    Les spectres de transmission et de réflectance, ainsi que les couleurs des couches minces optiques, sont deux caractéristiques simultanées des dispositifs à couches minces. 1. Le spectre de transmission et de réflectance décrit la relation entre la réflectance et la transmittance des dispositifs à couches minces optiques en fonction de la longueur d'onde. Il est…
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  • Machine de revêtement sous vide optique PVD par évaporation de couches minces AF

    La machine de revêtement sous vide AF Thin Film Evaporation Optical PVD est conçue pour appliquer des revêtements en couches minces sur des appareils mobiles grâce au procédé de dépôt physique en phase vapeur (PVD). Ce procédé consiste à créer un environnement sous vide dans une chambre de revêtement où les matériaux solides sont évaporés puis déposés...
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  • machine de fabrication de miroirs à revêtement sous vide en aluminium argenté

    La machine de fabrication de miroirs à revêtement sous vide en argent d'aluminium a révolutionné l'industrie de la fabrication de miroirs grâce à sa technologie de pointe et à son ingénierie de précision. Cette machine ultramoderne est conçue pour appliquer une fine couche d'argent d'aluminium sur la surface du verre, créant ainsi des miroirs de haute qualité.
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  • machine de revêtement sous vide optique

    Le métalliseur optique sous vide est une technologie de pointe qui a révolutionné l'industrie du revêtement de surface. Cette machine avancée utilise un procédé appelé métallisation optique sous vide pour appliquer une fine couche de métal sur divers substrats, créant ainsi une surface hautement réfléchissante et durable.
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  • Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma Chapitre 2

    La plupart des éléments chimiques peuvent être vaporisés en les combinant avec des groupements chimiques ; par exemple, le silicium réagit avec l’hydrogène pour former du SiH₄, et l’aluminium se combine avec le méthane pour former de l’Al(CH₃). Lors du procédé CVD thermique, ces gaz absorbent une certaine quantité d’énergie thermique en traversant le substrat chauffé et forment…
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