Vakuummagnetronsputtring är särskilt lämplig för reaktiva deponeringsbeläggningar. Faktum är att denna process kan deponera tunna filmer av alla oxid-, karbid- och nitridmaterial. Dessutom är processen också särskilt lämplig för deponering av flerskiktsfilmstrukturer, inklusive optiska...
"DLC är en förkortning av ordet 'DIAMANTLIKE CARBON', ett ämne som består av kolämnen, liknar diamant till sin natur och har en struktur som liknar grafitatomer. Diamantlikt kol (DLC) är en amorf film som har uppmärksammats av den tribologiska gemenskapen..."
Elektriska egenskaper och tillämpningar av diamantfilmer Diamant har också en förbjuden bandbredd, hög bärvågsmobilitet, god värmeledningsförmåga, hög mättnadselektrondriftshastighet, liten dielektricitetskonstant, hög genombrottsspänning och elektronhålsmobilitet, etc. Dess genombrottsspänning är två eller...
Diamant som bildas med stark kemisk bindning har speciella mekaniska och elastiska egenskaper. Hårdheten, densiteten och värmeledningsförmågan hos diamant är de högsta bland kända material. Diamant har också den högsta elasticitetsmodulen av alla material. Friktionskoefficienten för en diamant ...
Galliumarsenid (GaAs) Ⅲ ~ V-föreningsbatterier har en omvandlingseffektivitet på upp till 28 %, GaAs-föreningsmaterialet har ett mycket idealiskt optiskt bandgap, såväl som hög absorptionseffektivitet, stark motståndskraft mot bestrålning, värmeokänslighet, lämplig för tillverkning av högeffektiva enkelkopplingsbatterier...
Solceller har utvecklats till den tredje generationen, där den första generationen är monokristallina kiselsolceller, den andra generationen är amorfa kisel- och polykristallina kiselsolceller, och den tredje generationen är koppar-stål-gallium-selenid (CIGS) som representant för...
Membranlagrets mekaniska egenskaper påverkas av vidhäftning, spänning, aggregeringstäthet etc. Från förhållandet mellan membranlagrets material och processfaktorer kan man se att om vi vill förbättra membranlagrets mekaniska hållfasthet bör vi fokusera på...
Epitaxiell tillväxt, ofta även kallad epitaxi, är en av de viktigaste processerna vid tillverkning av halvledarmaterial och -komponenter. Den så kallade epitaxiska tillväxten sker under vissa förhållanden i enkristallsubstratet på tillväxten av ett lager av en enda produktfilm, en process...
I stort sett kan CVD grovt sett delas in i två typer: den ena är ångavsättning av ett enda kristallint epitaxiellt lager på substratet, vilket snävt kallas CVD; den andra är avsättning av tunna filmer på substratet, inklusive flerproduktsfilmer och amorfa filmer. Enligt...
Utifrån detta ska vi klargöra: (1) tunnfilmskomponenter, transmittans, reflektansspektra och färgen i motsvarande förhållande mellan, det vill säga, ett spektrum av en färg; tvärtom är detta förhållande "inte unikt", manifesterat som ett färgmultispektrum. Därför är filmens...
Transmissions- och reflektansspektra och färger hos optiska tunnfilmer är två egenskaper hos tunnfilmskomponenter som existerar samtidigt. 1. Transmissions- och reflektansspektrum är förhållandet mellan reflektans och transmittans hos optiska tunnfilmskomponenter med våglängd. Det är c...
AF Thin Film Evaporation Optical PVD vakuumbeläggningsmaskin är utformad för att applicera tunnfilmsbeläggningar på mobila enheter med hjälp av PVD-processen (Physical Vapor Deposition). Processen innebär att skapa en vakuummiljö i en beläggningskammare där fasta material avdunstas och sedan avsätts...
Maskinen för vakuumbeläggning av spegeln med aluminium- och silverbeläggning har revolutionerat spegeltillverkningsindustrin med sin avancerade teknik och precisionsteknik. Denna toppmoderna maskin är utformad för att applicera ett tunt lager aluminium- och silverbeläggning på glasytan, vilket skapar högkvalitativa...
Den optiska vakuummetallisatorn är en toppmodern teknik som har revolutionerat ytbeläggningsindustrin. Denna avancerade maskin använder en process som kallas optisk vakuummetallisering för att applicera ett tunt lager metall på en mängd olika underlag, vilket skapar en mycket reflekterande och hållbar yta...
De flesta kemiska element kan förångas genom att kombineras med kemiska grupper, t.ex. reagerar Si med H för att bilda SiH4, och Al kombineras med CH3 för att bilda Al(CH3). I den termiska CVD-processen absorberar ovanstående gaser en viss mängd termisk energi när de passerar genom det uppvärmda substratet och bildar åter...