Benvinguts a Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
bàner_de_pàgina

Notícies

  • Característiques tècniques de la màquina de recobriment per pulverització catòdica

    La pulverització catòdica amb magnetró al buit és particularment adequada per a recobriments de deposició reactiva. De fet, aquest procés pot dipositar pel·lícules primes de qualsevol material d'òxid, carbur i nitrid. A més, el procés també és particularment adequat per a la deposició d'estructures de pel·lícules multicapa, incloent-hi òptimes...
    Llegir més
  • Introducció a la tecnologia DLC

    “DLC és una abreviatura de la paraula “CARBON DE SIMUL DIAMANT”, una substància composta d'elements de carboni, de naturalesa similar al diamant, i que té l'estructura d'àtoms de grafit. El carboni de tipus diamant (DLC) és una pel·lícula amorfa que ha atret l'atenció de la comunitat tribològica...
    Llegir més
  • Propietats i aplicacions de les pel·lícules de diamant, capítol 2

    Propietats i aplicacions de les pel·lícules de diamant, capítol 2

    Propietats elèctriques i aplicacions de les pel·lícules de diamant El diamant també té un ample de banda prohibit, una alta mobilitat del portador, una bona conductivitat tèrmica, una alta taxa de deriva d'electrons de saturació, una petita constant dielèctrica, una alta tensió de ruptura i mobilitat dels forats d'electrons, etc. La seva tensió de ruptura és de dos o...
    Llegir més
  • Propietats i aplicacions de les pel·lícules de diamant, capítol 1

    Propietats i aplicacions de les pel·lícules de diamant, capítol 1

    El diamant format amb un fort enllaç químic té propietats mecàniques i elàstiques especials. La duresa, la densitat i la conductivitat tèrmica del diamant són les més altes entre els materials coneguts. El diamant també té el mòdul d'elasticitat més alt de qualsevol material. El coeficient de fricció d'un diamant...
    Llegir més
  • Tipus de cèl·lules solars capítol 2

    Tipus de cèl·lules solars capítol 2

    L'eficiència de conversió de la bateria composta d'arseniur de gal·li (GaAs) Ⅲ ~ V és de fins al 28%. El material compost de GaAs té una banda prohibida òptica molt ideal, així com una alta eficiència d'absorció, una forta resistència a la irradiació, insensible a la calor, adequada per a la fabricació de bateries d'alta eficiència d'unió única...
    Llegir més
  • Tipus de cèl·lules solars capítol 1

    Tipus de cèl·lules solars capítol 1

    Les cèl·lules solars s'han desenvolupat fins a la tercera generació, la primera generació són cèl·lules solars de silici monocristal·lí, la segona generació són cèl·lules solars de silici amorf i silici policristal·lí, i la tercera generació és coure-acer-gal·li-seleniur (CIGS) com a representant de...
    Llegir més
  • Maneres de procés per millorar la resistència mecànica de la capa de pel·lícula

    Maneres de procés per millorar la resistència mecànica de la capa de pel·lícula

    Les propietats mecàniques de la capa de membrana es veuen afectades per l'adhesió, la tensió, la densitat d'agregació, etc. A partir de la relació entre el material de la capa de membrana i els factors del procés, es pot veure que si volem millorar la resistència mecànica de la capa de membrana, ens hem de centrar...
    Llegir més
  • Deposició química de vapor

    Deposició química de vapor

    El creixement epitaxial, sovint també anomenat epitàxia, és un dels processos més importants en la fabricació de materials i dispositius semiconductors. L'anomenat creixement epitaxial es produeix en determinades condicions en el substrat monocristall durant el creixement d'una capa de pel·lícula de producte únic,...
    Llegir més
  • Tipus de tecnologia CVD

    Tipus de tecnologia CVD

    En termes generals, la CVD es pot dividir aproximadament en dos tipus: un és la deposició de vapor d'un sol producte sobre el substrat d'una capa epitaxial de monocristall, que és estretament CVD; l'altre és la deposició de pel·lícules primes sobre el substrat, incloent-hi pel·lícules multiproducte i amorfes. Segons...
    Llegir més
  • Espectres de transmissió i reflectància i color de pel·lícules primes òptiques Capítol 2

    A partir d'això, aclarim: (1) dispositius de pel·lícula fina, transmitància, espectres de reflectància i el color de la relació corresponent entre ells, és a dir, un espectre d'un color; al contrari, aquesta relació "no és única", es manifesta com un multiespectre de color. Per tant, la pel·lícula...
    Llegir més
  • Espectres de transmissió i reflectància i color de pel·lícules primes òptiques Capítol 1

    Els espectres de transmissió i reflectància i els colors de les pel·lícules òptiques primes són dues característiques dels dispositius de pel·lícula fina que existeixen alhora. 1. L'espectre de transmissió i reflectància és la relació entre la reflectància i la transmitància dels dispositius de pel·lícula fina òptica amb la longitud d'ona. És c...
    Llegir més
  • Màquina de recobriment al buit PVD òptic per evaporació de pel·lícula fina AF

    La màquina de recobriment al buit PVD òptic per evaporació de pel·lícules primes AF està dissenyada per aplicar recobriments de pel·lícules primes a dispositius mòbils mitjançant el procés de deposició física de vapor (PVD). El procés implica la creació d'un entorn de buit dins d'una cambra de recobriment on els materials sòlids s'evaporen i després es dipositen...
    Llegir més
  • Màquina de fabricació de miralls de recobriment al buit d'alumini i plata

    La màquina de fabricació de miralls de recobriment al buit d'alumini i plata ha revolucionat la indústria de fabricació de miralls amb la seva tecnologia avançada i enginyeria de precisió. Aquesta màquina d'última generació està dissenyada per aplicar una fina capa d'alumini i plata a la superfície del vidre, creant...
    Llegir més
  • Màquina de recobriment òptic al buit

    El metal·litzador òptic al buit és una tecnologia d'avantguarda que ha revolucionat la indústria del recobriment de superfícies. Aquesta màquina avançada utilitza un procés anomenat metal·lització òptica al buit per aplicar una capa fina de metall a una varietat de substrats, creant una superfície altament reflectant i duradora...
    Llegir més
  • Deposició química de vapor potenciada per plasma Capítol 2

    La majoria dels elements químics es poden vaporitzar combinant-los amb grups químics, per exemple, el Si reacciona amb l'H per formar SiH4 i l'Al es combina amb el CH3 per formar Al(CH3). En el procés CVD tèrmic, els gasos anteriors absorbeixen una certa quantitat d'energia tèrmica a mesura que passen pel substrat escalfat i formen...
    Llegir més