व्हॅक्यूम मॅग्नेट्रॉन स्पटरिंग हे रिॲक्टिव्ह डिपॉझिशन कोटिंग्ससाठी विशेषतः योग्य आहे. वास्तविक पाहता, या प्रक्रियेद्वारे कोणत्याही ऑक्साइड, कार्बाइड आणि नायट्राइड पदार्थांचे पातळ थर जमा करता येतात. याव्यतिरिक्त, ही प्रक्रिया ऑप्टीसह मल्टीलेयर फिल्म स्ट्रक्चर्सच्या डिपॉझिशनसाठी देखील विशेषतः योग्य आहे...
डीएलसी (DLC) हे ‘डायमंड-लाइक कार्बन’ (DIAMOND-LIKE CARBON) या शब्दाचे संक्षिप्त रूप आहे. हा कार्बन मूलद्रव्यांपासून बनलेला एक पदार्थ असून, तो स्वरूपाने हिऱ्यासारखा असतो आणि त्याची रचना ग्रॅफाइट अणूंसारखी असते. डायमंड-लाइक कार्बन (DLC) ही एक अस्फटिकी फिल्म आहे, जिने घर्षणविज्ञान समुदायाचे लक्ष वेधून घेतले आहे...
हिऱ्याच्या फिल्म्सचे विद्युत गुणधर्म आणि उपयोग. हिऱ्यामध्ये निषिद्ध बँडविड्थ, उच्च वाहक गतिशीलता, चांगली औष्णिक वाहकता, उच्च संपृक्त इलेक्ट्रॉन ड्रिफ्ट दर, लहान डायलेक्ट्रिक स्थिरांक, उच्च ब्रेकडाउन व्होल्टेज आणि इलेक्ट्रॉन-होल गतिशीलता इत्यादी गुणधर्म देखील आहेत. त्याचा ब्रेकडाउन व्होल्टेज दोन किंवा...
मजबूत रासायनिक बंधनाने तयार झालेल्या हिऱ्यामध्ये विशेष यांत्रिक आणि लवचिक गुणधर्म असतात. ज्ञात पदार्थांमध्ये हिऱ्याची कठीणता, घनता आणि औष्णिक वाहकता सर्वाधिक आहे. तसेच, कोणत्याही पदार्थापेक्षा हिऱ्याचा स्थितिस्थापकता गुणांक सर्वाधिक असतो. हिऱ्याचा घर्षण गुणांक...
गॅलियम आर्सेनाइड (GaAs) Ⅲ ~ V संयुक्त बॅटरीची रूपांतरण कार्यक्षमता २८% पर्यंत असते, GaAs संयुक्त पदार्थामध्ये अत्यंत आदर्श ऑप्टिकल बँड गॅप, तसेच उच्च शोषण कार्यक्षमता, किरणोत्सर्गाला तीव्र प्रतिकारशक्ती आणि उष्णता असंवेदनशीलता असते, जे उच्च-कार्यक्षम सिंगल-जंक्शन बॅटरीच्या निर्मितीसाठी योग्य आहे...
सौर पेशी तिसऱ्या पिढीपर्यंत विकसित झाल्या आहेत, ज्यामध्ये पहिली पिढी मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन सौर पेशी, दुसरी पिढी अमॉर्फस सिलिकॉन आणि पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन सौर पेशी, आणि तिसरी पिढी कॉपर-स्टील-गॅलियम-सेलेनाइड (CIGS) आहे, जी याचे प्रतिनिधित्व करते...
मेम्ब्रेन लेयरचे यांत्रिक गुणधर्म आसंजन, ताण, एकत्रीकरण घनता इत्यादींमुळे प्रभावित होतात. मेम्ब्रेन लेयरचे मटेरियल आणि प्रक्रिया घटकांमधील संबंधावरून असे दिसून येते की, जर आपल्याला मेम्ब्रेन लेयरची यांत्रिक शक्ती सुधारायची असेल, तर आपण लक्ष केंद्रित केले पाहिजे...
एपिटॅक्सियल ग्रोथ, ज्याला अनेकदा एपिटॅक्सी असेही म्हटले जाते, ही सेमीकंडक्टर मटेरियल आणि उपकरणांच्या निर्मितीमधील सर्वात महत्त्वाच्या प्रक्रियांपैकी एक आहे. तथाकथित एपिटॅक्सियल ग्रोथ ही विशिष्ट परिस्थितीत सिंगल क्रिस्टल सबस्ट्रेटवर एकाच उत्पादनाच्या फिल्मच्या थराची वाढ करण्याची प्रक्रिया आहे, जी...
ढोबळमानाने सांगायचे झाल्यास, सीव्हीडीचे (CVD) अंदाजे दोन प्रकारांमध्ये वर्गीकरण करता येते: एक म्हणजे सबस्ट्रेटवर एकल-उत्पादनाच्या बाष्प निक्षेपणाद्वारे एकल-स्फटिक एपिटॅक्सियल थर तयार करणे, ज्याला संकुचितपणे सीव्हीडी (CVD) म्हणतात; आणि दुसरा म्हणजे सबस्ट्रेटवर पातळ थरांचे निक्षेपण करणे, ज्यामध्ये बहु-उत्पादने आणि अस्फटिकी थरांचा समावेश होतो. त्यानुसार...
यावरून आपण हे स्पष्ट करणार आहोत: (1) थिन-फिल्म उपकरणे, पारगम्यता, परावर्तन वर्णपट आणि रंग यांच्यातील संबंधित संबंध, म्हणजेच रंगाचा वर्णपट; याउलट, हा संबंध “एकमेव” नसतो, जो रंगाच्या बहु-वर्णपटाच्या रूपात प्रकट होतो. म्हणून, फिल्म'...
ऑप्टिकल थिन फिल्म्सचे ट्रान्समिशन आणि रिफ्लेक्टन्स स्पेक्ट्रा आणि रंग ही थिन फिल्म उपकरणांची एकाच वेळी अस्तित्वात असलेली दोन वैशिष्ट्ये आहेत. १. ट्रान्समिशन आणि रिफ्लेक्टन्स स्पेक्ट्रम म्हणजे ऑप्टिकल थिन फिल्म उपकरणांच्या परावर्तकता आणि पारगम्यतेचा तरंगलांबीशी असलेला संबंध. हे...
एएफ थिन फिल्म इव्हॅपोरेशन ऑप्टिकल पीव्हीडी व्हॅक्यूम कोटिंग मशीन हे फिजिकल व्हेपर डिपॉझिशन (PVD) प्रक्रियेचा वापर करून मोबाईल उपकरणांवर पातळ थराचे कोटिंग लावण्यासाठी डिझाइन केलेले आहे. या प्रक्रियेमध्ये कोटिंग चेंबरमध्ये व्हॅक्यूम वातावरण तयार केले जाते, जिथे घन पदार्थांचे बाष्पीभवन होते आणि नंतर ते जमा होतात...
ॲल्युमिनियम सिल्व्हर व्हॅक्यूम कोटिंग मिरर बनवण्याच्या मशीनने आपल्या प्रगत तंत्रज्ञान आणि अचूक अभियांत्रिकीने आरसा निर्मिती उद्योगात क्रांती घडवून आणली आहे. हे अत्याधुनिक मशीन काचेच्या पृष्ठभागावर ॲल्युमिनियम सिल्व्हरचा पातळ थर लावण्यासाठी डिझाइन केलेले आहे, ज्यामुळे उच्च-गुणवत्तेचे आरसे तयार होतात...
ऑप्टिकल व्हॅक्यूम मेटलायझर हे एक अत्याधुनिक तंत्रज्ञान आहे, ज्याने पृष्ठभाग लेपन उद्योगात क्रांती घडवून आणली आहे. हे प्रगत मशीन ऑप्टिकल व्हॅक्यूम मेटलायझेशन नावाच्या प्रक्रियेचा वापर करून विविध प्रकारच्या सब्सट्रेट्सवर धातूचा पातळ थर लावते, ज्यामुळे एक अत्यंत परावर्तक आणि टिकाऊ पृष्ठभाग तयार होतो...
बहुतेक रासायनिक मूलद्रव्यांना रासायनिक गटांशी संयोग करून बाष्पीभूत केले जाऊ शकते, उदा. Si, H सोबत अभिक्रिया करून SiH4 तयार करतो आणि Al, CH3 सोबत संयोग करून Al(CH3) तयार करतो. थर्मल CVD प्रक्रियेमध्ये, वरील वायू गरम केलेल्या सब्सट्रेटमधून जाताना विशिष्ट प्रमाणात औष्णिक ऊर्जा शोषून घेतात आणि पुन्हा तयार होतात...