Vakuuminis magnetroninis dulkinimas ypač tinka reaktyviosioms dangoms nusodinti. Tiesą sakant, šiuo procesu galima nusodinti plonas bet kokių oksidų, karbido ir nitridų medžiagų plėveles. Be to, šis procesas taip pat ypač tinka daugiasluoksnių plėvelių struktūrų, įskaitant optinius...
„DLC yra žodžio „DIAMOND-LIKE CARBON“ santrumpa. Tai medžiaga, sudaryta iš anglies elementų, savo prigimtimi panašių į deimantą ir turinti grafito atomų struktūrą. Deimantinė anglis (DLC) yra amorfinė plėvelė, patraukusi tribologijos bendruomenės dėmesį...“
Deimantinių plėvelių elektrinės savybės ir pritaikymas. Deimantas taip pat pasižymi draudžiama pralaidumo juosta, dideliu krūvininkų judrumu, geru šilumos laidumu, dideliu elektronų prisotinimo greičiu, maža dielektrine konstanta, didele pramušimo įtampa ir elektronų skylių judrumu ir kt. Jo pramušimo įtampa yra dvi ar...
Stipriu cheminiu ryšiu suformuotas deimantas pasižymi ypatingomis mechaninėmis ir elastingomis savybėmis. Deimanto kietumas, tankis ir šilumos laidumas yra didžiausi iš žinomų medžiagų. Deimantas taip pat turi didžiausią elastingumo modulį iš visų medžiagų. Deimanto trinties koeficientas...
Galio arsenido (GaAs) III ~ V junginio akumuliatoriaus konversijos efektyvumas siekia iki 28 %, GaAs junginio medžiaga pasižymi labai idealiu optiniu draustiniu tarpu, taip pat dideliu sugerties efektyvumu, dideliu atsparumu spinduliuotei, nejautria karščiui, tinka didelio efektyvumo vienos jungties akumuliatorių gamybai...
Saulės elementai buvo sukurti iki trečios kartos, kurios pirmoji karta yra monokristaliniai silicio saulės elementai, antroji karta – amorfiniai silicio ir polikristaliniai silicio saulės elementai, o trečioji karta – vario-plieno-galio-selenido (CIGS) kaip...
Membraninio sluoksnio mechaninėms savybėms įtakos turi sukibimas, įtempis, agregacijos tankis ir kt. Iš membraninio sluoksnio medžiagos ir proceso veiksnių santykio matyti, kad jei norime pagerinti membraninio sluoksnio mechaninį stiprumą, turėtume sutelkti dėmesį į...
Epitaksinis augimas, dažnai dar vadinamas epitaksija, yra vienas iš svarbiausių puslaidininkinių medžiagų ir įtaisų gamybos procesų. Vadinamasis epitaksinis augimas tam tikromis sąlygomis vyksta monokristalio substrato sluoksnio, sudaryto iš vieno produkto plėvelės, augimo procese, t...
Apskritai CVD galima grubiai suskirstyti į du tipus: vienas yra vieno produkto garų nusodinimas ant pagrindo, monokristalo epitaksinio sluoksnio, kuris siaurai yra CVD; kitas yra plonų plėvelių, įskaitant daugiaproduktes ir amorfines plėveles, nusodinimas ant pagrindo. Pagal...
Iš to mes tuoj išsiaiškinsime: (1) plonasluoksnių įtaisų pralaidumo, atspindžio spektrų ir atitinkamo spalvos ryšio, t. y. spalvos spektro; priešingai, šis ryšys nėra „unikalus“, pasireiškiantis kaip spalvų daugiaspektris. Todėl plėvelė...
Optinių plonų plėvelių perdavimo ir atspindžio spektrai bei spalvos yra dvi plonų plėvelių įtaisų charakteristikos, egzistuojančios tuo pačiu metu. 1. Perdavimo ir atspindžio spektras yra optinių plonų plėvelių įtaisų atspindžio ir pralaidumo santykis su bangos ilgiu. Tai...
AF plonasluoksnės garinimo optinio PVD vakuuminio dengimo mašina skirta plonasluoksnėms dangoms dengti ant mobiliųjų įrenginių naudojant fizikinio garinimo nusodinimo (PVD) procesą. Proceso metu dengimo kameroje sukuriama vakuuminė aplinka, kurioje kietos medžiagos išgarinamos, o po to nusodinamos...
Aliuminio sidabro vakuuminio dengimo veidrodžių gamybos mašina savo pažangiomis technologijomis ir tiksliąja inžinerija sukėlė revoliuciją veidrodžių gamybos pramonėje. Ši moderni mašina skirta plonam aliuminio sidabro sluoksniui užtepti ant stiklo paviršiaus, sukuriant aukštos kokybės...
Optinis vakuuminis metalizatorius yra pažangiausia technologija, sukėlęs revoliuciją paviršių dengimo pramonėje. Šis pažangus aparatas naudoja procesą, vadinamą optiniu vakuuminiu metalizavimu, kad ant įvairių paviršių būtų užtepamas plonas metalo sluoksnis, sukuriant labai atspindintį ir patvarų paviršių...
Dauguma cheminių elementų gali būti išgarinti juos sujungiant cheminėmis grupėmis, pvz., Si reaguoja su H ir sudaro SiH4, o Al jungiasi su CH3 ir sudaro Al(CH3). Terminio CVD proceso metu minėtos dujos, eidamos pro įkaitintą pagrindą, sugeria tam tikrą kiekį šiluminės energijos ir sudaro...