Вакуумското магнетронско распрскување е особено погодно за реактивни таложечки премази. Всушност, овој процес може да таложи тенки филмови од било кои оксидни, карбидни и нитридни материјали. Покрај тоа, процесот е особено погоден и за таложење на повеќеслојни филмски структури, вклучувајќи опти...
„DLC е кратенка од зборот „DIAMOND-LIKE CARBON“, супстанца составена од јаглеродни елементи, слични по природа на дијамантот, и со структура на графитни атоми. Diamond-Like Carbon (DLC) е аморфен филм кој го привлече вниманието на триболошката заедница...“
Електрични својства и примена на дијамантски филмови Дијамантот, исто така, има забранет пропусен опсег, висока подвижност на носителите, добра топлинска спроводливост, висока стапка на заситеност на електроните, мала диелектрична константа, висок напон на распаѓање и подвижност на електронски дупки, итн. Неговиот напон на распаѓање е два или...
Дијамантот формиран со силно хемиско врзување има посебни механички и еластични својства. Тврдоста, густината и топлинската спроводливост на дијамантот се највисоки меѓу познатите материјали. Дијамантот, исто така, има највисок модул на еластичност од кој било материјал. Коефициентот на триење на дијамантот ...
Ефикасност на конверзија на соединенија од галиум арсенид (GaAs) Ⅲ ~ V батерии до 28%, материјалот со соединение GaAs има многу идеален оптички енергетски јаз, како и висока ефикасност на апсорпција, силна отпорност на зрачење, нечувствителен на топлина, погоден за производство на високоефикасни едноспојни батерии...
Сончевите ќелии се развиени до третата генерација, од кои првата генерација се монокристални силициумски соларни ќелии, втората генерација се аморфни силициумски и поликристални силициумски соларни ќелии, а третата генерација се бакар-челик-галиум-селенид (CIGS) како претставник на...
Механичките својства на мембранскиот слој се под влијание на адхезијата, стресот, густината на агрегација итн. Од односот помеѓу материјалот на мембранскиот слој и факторите на процесот, може да се види дека ако сакаме да ја подобриме механичката цврстина на мембранскиот слој, треба да се фокусираме на...
Епитаксијалниот раст, честопати нарекуван и епитаксија, е еден од најважните процеси во производството на полупроводнички материјали и уреди. Таканаречениот епитаксијален раст е под одредени услови во монокристалната подлога на растот на слој од филм од еден производ, т...
Општо земено, CVD може грубо да се подели на два вида: едниот е таложење со пареа на еден производ на подлогата од монокристален епитаксијален слој, кој е тесно CVD; другиот е таложење на тенки филмови на подлогата, вклучувајќи филмови со повеќе производи и аморфни филмови. Според т...
Од ова ќе разјасниме: (1) тенки-филмски уреди, пропустливост, рефлектантни спектри и соодветната врска помеѓу бојата, односно спектарот на бојата; напротив, оваа врска „не е единствена“, се манифестира како мулти-спектрум на бои. Затоа, филмот...
Спектрите на трансмисија и рефлектанса и боите на тенки оптички филмови се две карактеристики на уредите со тенок филм кои постојат истовремено. 1. Спектрот на трансмисија и рефлектанса е односот помеѓу рефлектансата и пропустливоста на уредите со тенок филм со бранова должина. Тоа е в...
Машината за вакуумско премачкување со тенка фолија со испарување на AF е дизајнирана за нанесување тенкофилмски премази на мобилни уреди со користење на процесот на физичко таложење со пареа (PVD). Процесот вклучува создавање вакуумска средина во комората за премачкување каде што цврстите материјали се испаруваат, а потоа се таложат...
Машината за производство на огледала со вакуумско обложување од алуминиумско сребро ја револуционизираше индустријата за производство на огледала со својата напредна технологија и прецизен инженеринг. Оваа најсовремена машина е дизајнирана да нанесе тенок слој од алуминиумско сребро на површината на стаклото, создавајќи висококвалитетни...
Оптичкиот вакуум метализатор е најсовремена технологија која ја револуционизираше индустријата за површинско обложување. Оваа напредна машина користи процес наречен оптичка вакуумска метализација за да нанесе тенок слој метал на различни подлоги, создавајќи високо рефлективна и издржлива површина...
Повеќето хемиски елементи можат да испарат со нивно комбинирање со хемиски групи, на пр. Si реагира со H за да формира SiH4, а Al се комбинира со CH3 за да формира Al(CH3). Во термичкиот CVD процес, горенаведените гасови апсорбираат одредена количина на топлинска енергија додека минуваат низ загреаната подлога и формираат ре...