Vakuumsko magnetronsko raspršivanje posebno je prikladno za reaktivne premaze. Zapravo, ovaj proces može nanositi tanke filmove bilo kojeg oksidnog, karbidnog i nitridnog materijala. Osim toga, proces je također posebno prikladan za nanošenje višeslojnih filmskih struktura, uključujući opti...
„DLC je kratica od riječi „DIAMOND-LIKE CARBON“, tvari sastavljene od ugljikovih elemenata, slične prirode dijamantu i strukture atoma grafita. Dijamant-like Carbon (DLC) je amorfni film koji je privukao pozornost tribološke zajednice...“
Električna svojstva i primjena dijamantnih filmova Dijamant također ima zabranjenu propusnost, visoku pokretljivost nosioca, dobru toplinsku vodljivost, visoku brzinu pomicanja elektrona zasićenja, malu dielektričnu konstantu, visoki probojni napon i pokretljivost elektronskih šupljina itd. Njegov probojni napon je dva ili...
Dijamant nastao jakom kemijskom vezom ima posebna mehanička i elastična svojstva. Tvrdoća, gustoća i toplinska vodljivost dijamanta su najviše među poznatim materijalima. Dijamant također ima najveći modul elastičnosti od bilo kojeg materijala. Koeficijent trenja dijamanta ...
Učinkovitost pretvorbe složene baterije galij arsenida (GaAs) Ⅲ ~ V do 28%, složeni materijal GaAs ima vrlo idealan optički zabranjeni pojas, kao i visoku učinkovitost apsorpcije, snažnu otpornost na zračenje, neosjetljivost na toplinu, pogodan za proizvodnju visokoučinkovitih jednospojnih baterija...
solarne ćelije su razvijene do treće generacije, pri čemu prva generacija su monokristalne silicijeve solarne ćelije, druga generacija su amorfne silicijeve i polikristalne silicijeve solarne ćelije, a treća generacija su bakar-čelik-galij-selenidne (CIGS) kao predstavnik...
Na mehanička svojstva membranskog sloja utječu adhezija, naprezanje, gustoća agregacije itd. Iz odnosa između materijala membranskog sloja i procesnih čimbenika može se vidjeti da ako želimo poboljšati mehaničku čvrstoću membranskog sloja, trebali bismo se usredotočiti na...
Epitaksijalni rast, često nazivan i epitaksija, jedan je od najvažnijih procesa u izradi poluvodičkih materijala i uređaja. Takozvani epitaksijalni rast odvija se u određenim uvjetima u monokristalnoj podlozi na rastu sloja filma jednog proizvoda, t...
Općenito govoreći, CVD se može grubo podijeliti na dvije vrste: jedna je taloženje parom jednog proizvoda na podlozi monokristalnog epitaksijalnog sloja, što je usko CVD; druga je taloženje tankih filmova na podlozi, uključujući višeproizvodne i amorfne filmove. Prema...
Iz ovoga ćemo razjasniti: (1) tankoslojni uređaji, propusnost, reflektirajući spektri i boja odgovarajućeg odnosa između, odnosno spektra boje; naprotiv, ovaj odnos "nije jedinstven", manifestira se kao višestruki spektar boja. Stoga, film...
Spektar transmisije i refleksije te boje optičkih tankih filmova dvije su karakteristike tankoslojnih uređaja koje postoje istovremeno. 1. Spektar transmisije i refleksije je odnos između refleksije i propusnosti optičkih tankoslojnih uređaja s valnom duljinom. To je c...
AF stroj za optičko PVD vakuumsko nanošenje tankih filmova isparavanjem dizajniran je za nanošenje tankih filmova na mobilne uređaje korištenjem postupka fizičkog taloženja iz pare (PVD). Postupak uključuje stvaranje vakuumskog okruženja unutar komore za premazivanje gdje se kruti materijali isparavaju, a zatim talože...
Stroj za izradu zrcala s vakuumskim premazom od aluminija i srebra revolucionirao je industriju proizvodnje zrcala svojom naprednom tehnologijom i preciznim inženjeringom. Ovaj najsuvremeniji stroj dizajniran je za nanošenje tankog sloja aluminija i srebra na površinu stakla, stvarajući visokokvalitetne...
Optički vakuumski metalizator je najsuvremenija tehnologija koja je revolucionirala industriju površinskih premaza. Ovaj napredni stroj koristi proces nazvan optička vakuumska metalizacija za nanošenje tankog sloja metala na različite podloge, stvarajući visoko reflektirajuću i izdržljivu površinu...
Većina kemijskih elemenata može se ispariti kombiniranjem s kemijskim skupinama, npr. Si reagira s H i tvori SiH4, a Al se kombinira s CH3 i tvori Al(CH3). U termičkom CVD procesu, gore navedeni plinovi apsorbiraju određenu količinu toplinske energije dok prolaze kroz zagrijanu podlogu i tvore re...