ion ሽፋን ቴክኖሎጂ

ፊልሞችን ለማስቀመጥ የቫኩም ትነት ዘዴ ዋናው ገጽታ ከፍተኛ መጠን ያለው የማስቀመጫ መጠን ነው. የመርጨት ዘዴ ዋናው ገጽታ ሰፊው ሊገኙ የሚችሉ የፊልም ቁሳቁሶች እና የፊልም ንብርብር ጥሩ ተመሳሳይነት ነው, ነገር ግን የማስቀመጫው መጠን ዝቅተኛ ነው. ion ሽፋን እነዚህን ሁለት ሂደቶች የሚያጣምር ዘዴ ነው.

ion ሽፋን መርህ እና የፊልም ምስረታ ሁኔታዎች
የ ion ሽፋን የስራ መርህ በፎቶው ላይ ይታያል. የቫኩም ክፍሉ ከ 10-4 ፒኤ በታች ባለው ግፊት ይጣላል, ከዚያም በማይንቀሳቀስ ጋዝ (ለምሳሌ argon) ወደ 0.1 ~ 1 ፓ.ሜትር ግፊት ይሞላል. እስከ 5 ኪሎ ቮልት ያለው አሉታዊ የዲሲ ቮልቴጅ በንጣፉ ላይ ከተተገበረ በኋላ ዝቅተኛ ግፊት ያለው የጋዝ ፍካት ፈሳሽ ፕላዝማ ዞን በመሠረት እና በክሬዲት መካከል ይመሰረታል. የማይነቃቁ ጋዝ አየኖች በኤሌክትሪክ መስክ የተፋጠነ እና የንጥረቱን ወለል በቦምብ ይሞላሉ, ስለዚህ የስራውን ገጽታ ያጸዳሉ. ይህ የንጽህና ሂደት ከተጠናቀቀ በኋላ የማቅለሚያው ሂደት የሚጀምረው በእቃው ውስጥ የሚቀባውን ንጥረ ነገር በእንፋሎት ነው. የ vaporized vapor ቅንጣቶች ወደ ፕላዝማ ዞን ውስጥ ገብተው ከተከፋፈሉት የማይነቃነቁ አወንታዊ አየኖች እና ኤሌክትሮኖች ጋር ይጋጫሉ ፣ እና አንዳንድ የእንፋሎት ቅንጣቶች ተለያይተው በኤሌክትሪክ መስክ ፍጥነት ላይ የ workpiece እና የሽፋኑ ወለል ላይ ቦምብ ይወርዳሉ። በ ion ፕላስቲን ሂደት ውስጥ ማስቀመጫ ብቻ ሳይሆን በአዎንታዊ ionዎች ላይም በመርጨት ላይ ነው, ስለዚህ ቀጭን ፊልሙ ሊፈጠር የሚችለው የማስቀመጫው ውጤት ከትፋቱ የበለጠ በሚሆንበት ጊዜ ብቻ ነው.

ንጣፉ ሁል ጊዜ በከፍተኛ ኃይል ionዎች የተሞላበት የ ion ሽፋን ሂደት በጣም ንፁህ እና ከትፋሽ እና በትነት ሽፋን ጋር ሲነፃፀር በርካታ ጥቅሞች አሉት።

(1) ጠንካራ ማጣበቂያ ፣ ሽፋን ሽፋን በቀላሉ አይላቀቅም።
(ሀ) በ ion ሽፋን ሂደት ውስጥ ፣ በፍካት ፈሳሽ የሚመነጩ ብዛት ያላቸው ከፍተኛ ኃይል ያላቸው ቅንጣቶች በንጣፉ ወለል ላይ የካቶዲክ sputtering ውጤት ለማምረት ፣ በመርጨት እና በማጽዳት በመሬቱ ወለል ላይ የታሸገውን ጋዝ እና ዘይት በማፅዳት አጠቃላይ የሽፋኑ ሂደት እስኪጠናቀቅ ድረስ የንጥረትን ወለል ለማጣራት ያገለግላሉ ።
(ለ) በፊልሙ መሠረት ላይ የመለዋወጫ ክፍሎችን ወይም የፊልም ቁስ እና የመሠረት ቁሳቁስ ድብልቅ ፣ “ሐሰተኛ-ስርጭት ንጣፍ” ተብሎ የሚጠራው የፊልሙን የማጣበቅ አፈፃፀም በተሳካ ሁኔታ ሊያሻሽል የሚችል የሽግግር ንጣፍ ሽፋን ሊፈጥር በሚችል ሽፋን ፣ መትረፍ እና አቀማመጥ መጀመሪያ ላይ።
(2) ጥሩ መጠቅለያ ባህሪያት. አንደኛው ምክንያት የሽፋኑ ቁሳቁስ አተሞች በከፍተኛ ግፊት ionized እና ከጋዝ ሞለኪውሎች ጋር በመጋጨታቸው ምክንያት ወደ ንጣፉ ላይ በሚደርሱበት ጊዜ ብዙ ጊዜ ይጋጫሉ, ስለዚህም የንጣፉ ቁስ አየኖች በንጣፉ ዙሪያ ሊበተኑ ይችላሉ. በተጨማሪም, ionized ሽፋን ቁሳዊ አተሞች የኤሌክትሪክ መስክ ያለውን እርምጃ ስር substrate ወለል ላይ ተከማችቷል, ስለዚህ መላው substrate ቀጭን ፊልም ጋር ተቀማጭ ነው, ነገር ግን ትነት ሽፋን ይህን ውጤት ማሳካት አይችልም.
(3) የሽፋኑ ከፍተኛ ጥራት ያለው የተከማቸ ፊልም የማያቋርጥ ቦምብ በአዎንታዊ ionዎች በሚፈነዳበት ጊዜ ኮንደንስ በመፍሰሱ ነው ፣ ይህም የሽፋኑን ንጣፍ ጥንካሬ ያሻሽላል።
(4) ሰፋ ያለ የመሸፈኛ ቁሳቁሶች እና ንጣፎች በብረታ ብረት ወይም በብረት ያልሆኑ ቁሳቁሶች ሊሸፈኑ ይችላሉ ።
(5) ከኬሚካላዊ የእንፋሎት ማጠራቀሚያ (CVD) ጋር ሲነጻጸር ዝቅተኛ የሙቀት መጠን አለው, በተለይም ከ 500 ° ሴ በታች, ነገር ግን የማጣበቅ ጥንካሬው ከኬሚካል የእንፋሎት ማጠራቀሚያ ፊልሞች ጋር ሙሉ በሙሉ ይነጻጸራል.
(6) ከፍተኛ የማስቀመጫ መጠን፣ ፈጣን የፊልም ምስረታ እና የፊልሞች ውፍረት ከአስር ናኖሜትር እስከ ማይክሮን መሸፈን ይችላል።

የ ion ሽፋን ጉዳቶች የሚከተሉት ናቸው: የፊልም ውፍረት በትክክል መቆጣጠር አይቻልም; ጥቃቅን ሽፋን በሚያስፈልግበት ጊዜ ጉድለቶች ትኩረት ከፍተኛ ነው; እና ጋዞች በሚሸፍኑበት ጊዜ ወደ ወለሉ ውስጥ ይገባሉ, ይህም የንጣፍ ባህሪያትን ይለውጣል. በአንዳንድ ሁኔታዎች, ክፍተቶች እና ኒውክሊየስ (ከ 1 nm ያነሰ) እንዲሁ ይፈጠራሉ.

የማስቀመጫ መጠንን በተመለከተ, ion ሽፋን ከትነት ዘዴ ጋር ተመጣጣኝ ነው. የፊልም ጥራትን በተመለከተ, በ ion ሽፋን የሚዘጋጁት ፊልሞች በመርጨት ከተዘጋጁት ቅርብ ወይም የተሻሉ ናቸው.