Máy phủ chân không phun là thiết bị được sử dụng để phủ lớp màng mỏng vật liệu lên chất nền. Quy trình này thường được sử dụng trong sản xuất chất bán dẫn, pin mặt trời và nhiều loại lớp phủ khác nhau cho các ứng dụng quang học và điện tử. Sau đây là tổng quan cơ bản về cách thức hoạt động của nó:
1. Buồng chân không: Quá trình diễn ra bên trong buồng chân không để giảm thiểu ô nhiễm và cho phép kiểm soát tốt hơn quá trình lắng đọng.
2. Vật liệu mục tiêu: Vật liệu cần lắng đọng được gọi là mục tiêu. Vật liệu này được đặt bên trong buồng chân không.
3. Chất nền: Chất nền là vật liệu mà màng mỏng sẽ được lắng đọng. Nó cũng được đặt bên trong buồng chân không.
4. Tạo plasma: Một loại khí trơ, thường là argon, được đưa vào buồng. Một điện áp cao được áp dụng cho mục tiêu, tạo ra plasma (một trạng thái vật chất bao gồm các electron tự do và các ion).
5. Phun: Các ion từ plasma va chạm với vật liệu mục tiêu, đánh bật các nguyên tử hoặc phân tử khỏi mục tiêu. Các hạt này sau đó di chuyển qua chân không và lắng đọng trên chất nền, tạo thành một lớp màng mỏng.
6. Kiểm soát: Độ dày và thành phần của màng có thể được kiểm soát chính xác bằng cách điều chỉnh các thông số như công suất tác dụng lên mục tiêu, áp suất của khí trơ và thời gian của quá trình phun.
– Bài viết này được phát hành bởinhà sản xuất máy phủ chân khôngQuảng Đông Chấn Hoa
Thời gian đăng: 12-07-2024