Ang sputtering vacuum coater ay isang aparatong ginagamit upang magdeposito ng manipis na mga pelikula ng materyal sa isang substrate. Ang prosesong ito ay karaniwang ginagamit sa paggawa ng mga semiconductor, solar cell, at iba't ibang uri ng coating para sa mga optical at electronic na aplikasyon. Narito ang isang pangunahing pangkalahatang-ideya kung paano ito gumagana:
1. Silid Pang-vacuum: Ang proseso ay nagaganap sa loob ng silid pang-vacuum upang mabawasan ang kontaminasyon at magbigay-daan para sa mas mahusay na kontrol sa proseso ng pagdedeposito.
2. Materyal na Target: Ang materyal na idedeposito ay kilala bilang target. Ito ay inilalagay sa loob ng vacuum chamber.
3. Substrate: Ang substrate ay ang materyal kung saan idideposito ang manipis na pelikula. Inilalagay din ito sa loob ng vacuum chamber.
4. Paglikha ng Plasma: Isang inert gas, karaniwang argon, ang ipinapasok sa silid. Isang mataas na boltahe ang inilalapat sa target, na lumilikha ng plasma (isang estado ng materya na binubuo ng mga libreng electron at ion).
5. Pag-sputtering: Ang mga ion mula sa plasma ay bumabangga sa target na materyal, na nagpapatalsik sa mga atomo o molekula mula sa target. Ang mga particle na ito ay naglalakbay sa vacuum at dumideposito sa substrate, na bumubuo ng manipis na pelikula.
6. Kontrol: Ang kapal at komposisyon ng pelikula ay maaaring tumpak na makontrol sa pamamagitan ng pagsasaayos ng mga parameter tulad ng lakas na inilapat sa target, ang presyon ng inert gas, at ang tagal ng proseso ng sputtering.
–Inilabas ang artikulong ito nitagagawa ng vacuum coating machineGuangdong Zhenhua
Oras ng pag-post: Hulyo 12, 2024