Чүпрәле каплау технологиясенең үсүе белән, хәзерге вакытта, магнитрон спуттеринг каплау технологиясе, хәзерге вакытта теләсә нинди материал өчен ион бомбардировщик пленка белән әзерләнергә мөмкин, чөнки максат аны ниндидер субстратка каплау процессында чәчелгән, пычрак фильмның сыйфаты мөһим йогынты ясый, шуңа күрә максатлы материал таләпләре дә катгый. Максатлы материалны сайлауда, фильмны куллануга өстәп, түбәндәге сорауларны да карарга кирәк:
1. Максатлы материал фильм формалашканнан соң яхшы механик көчкә һәм химик тотрыклылыкка ия булырга тиеш
2.
3 реакция буларак, мембрана материалы газ белән реакция җиңел булырга тиеш; 4.
4.
Фильмның җылылык стрессының йогынтысы; 5.
5. Мембрананың кулланылышы һәм эш таләпләре буенча, максат материалы чисталык, пычраклык эчтәлеге, компонент бердәмлеге, эшкәртү төгәллеге һәм башка техник таләпләргә туры килергә тиеш.
IsБу мәкалә бастырылганвакуум каплау машинасы җитештерүчеГуандун Чжэнхуа
Пост вакыты: 21-2023 декабрь