Ang sputtering vacuum coater ay isang aparato na ginagamit upang magdeposito ng mga manipis na pelikula ng materyal sa isang substrate. Ang prosesong ito ay karaniwang ginagamit sa paggawa ng mga semiconductor, solar cells, at iba't ibang uri ng coatings para sa optical at electronic na mga aplikasyon. Narito ang isang pangunahing pangkalahatang-ideya ng kung paano ito gumagana:
1.Vacuum Chamber: Ang proseso ay nagaganap sa loob ng isang vacuum chamber upang mabawasan ang kontaminasyon at magbigay-daan para sa mas mahusay na kontrol sa proseso ng pag-deposition.
2.Target na Materyal: Ang materyal na idedeposito ay kilala bilang ang target. Ito ay inilalagay sa loob ng silid ng vacuum.
3. Substrate: Ang substrate ay ang materyal na kung saan ang manipis na pelikula ay ideposito. Nakalagay din ito sa loob ng vacuum chamber.
4. Plasma Generation: Isang inert gas, karaniwang argon, ay ipinapasok sa silid. Ang isang mataas na boltahe ay inilalapat sa target, na lumilikha ng isang plasma (isang estado ng bagay na binubuo ng mga libreng electron at ions).
5.Sputtering: Ang mga ions mula sa plasma ay bumangga sa target na materyal, na nagpapaalis ng mga atom o molekula sa target. Ang mga particle na ito ay naglalakbay sa vacuum at nagdeposito sa substrate, na bumubuo ng isang manipis na pelikula.
6.Control: Ang kapal at komposisyon ng pelikula ay maaaring tumpak na makontrol sa pamamagitan ng pagsasaayos ng mga parameter tulad ng kapangyarihang inilapat sa target, ang presyon ng inert gas, at ang tagal ng proseso ng sputtering.
–Ang artikulong ito ay inilabas ngtagagawa ng vacuum coating machineGuangdong Zhenhua
Oras ng post: Hul-12-2024