Himiki elementleriň köpüsini himiki toparlar bilen birleşdirip bugaryp bolýar, mysal üçin Si H bilen SiH4 emele getirýär we Al CH3 bilen birleşip Al (CH3) emele getirýär. Malylylyk CVD prosesinde ýokardaky gazlar gyzdyrylan substratdan geçip, CH3 we AL (CH3) 2 we ş.m. ýaly reaktiw toparlary emele getirenlerinde belli bir mukdarda ýylylyk energiýasyny siňdirýär, soň bolsa biri-biri bilen birleşip, soňra substratda goýulýan reaktiw toparlary emele getirýär. Netijede, biri-biri bilen birleşip, inçe filmler hökmünde goýulýar. PECVD ýagdaýynda, plazmadaky elektronlaryň, kuwwatly bölejikleriň we gaz fazaly molekulalaryň çaknyşmagy bu reaktiw himiki toparlary döretmek üçin zerur bolan işjeňleşdirme energiýasyny üpjün edýär.
PECVD-iň artykmaçlyklary esasan aşakdaky taraplarda:
(1) Adaty himiki bug buglanyşy bilen deňeşdirilende has pes temperatura, esasan adaty ýyladyş işjeňliginiň ýerine reaktiw bölejikleriň plazma işjeňleşmegi bilen baglanyşykly;
(2) Adaty CVD bilen birmeňzeş, film gatlagynyň örtükli örtügi;
(3) Film gatlagynyň düzümini köp derejeli esassyz dolandyryp bolýar, köp gatly filmleri almagy aňsatlaşdyrýar;
(4) Film stresini ýokary / pes ýygylykdaky garyşyk tehnologiýasy bilen dolandyryp bolýar.
IsBu makala çap edildivakuum örtük maşyn öndürijisiGuangdong Zhenhua
Iş wagty: 18-2024-nji aprel