Nnọọ na Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
ọkọlọtọ otu

Isi nke 2 nke Mbelata Uzuoku Kemịkalụ Plasma Emelitere

Isi mmalite nke edemede: Zhenhua vacuum
Gụọ: 10
Ebipụtara: 24-04-18

Enwere ike ịfụ ọtụtụ ihe kemịkalụ site na ijikọta ha na otu kemịkalụ, dịka ọmụmaatụ Si na-emeghachi omume na H iji mepụta SiH4, Al na-ejikọkwa na CH3 iji mepụta Al(CH3). N'usoro CVD okpomọkụ, gas ndị dị n'elu na-amịkọrọ oke ike okpomọkụ ka ha na-agafe na substrate ọkụ ma na-etolite otu mmeghachi omume, dị ka CH3 na AL(CH3)2, wdg. Ha na-ejikọkwa onwe ha iji mepụta otu mmeghachi omume, nke a na-etinye na substrate ahụ. Mgbe nke ahụ gasịrị, ha na-ejikọta onwe ha ma na-etinye ha dị ka ihe nkiri dị gịrịgịrị. N'ihe gbasara PECVD, nkwekọ nke elektrọn, ihe ndị na-eme ka ike dị ike na molekul gas na plasma na-enye ike mkpali dị mkpa iji mepụta otu kemịkalụ mmeghachi omume ndị a.

Uru nke PECVD bụ n'ọtụtụ akụkụ ndị a:

(1) Okpomọkụ usoro dị ala ma e jiri ya tụnyere ihe e ji ekpofu uzuoku kemịkalụ nkịtị, nke bụ isi n'ihi mmụba plasma nke ihe ndị na-emegharị ahụ kama ime ka okpomọkụ dị mma;

(2) Dịka CVD nkịtị, mkpuchi dị mma nke oyi akwa ihe nkiri ahụ;

(3) Enwere ike ijikwa nhazi nke oyi akwa ihe nkiri ahụ n'ụzọ dị ukwuu, na-eme ka ọ dị mfe inweta ihe nkiri dị iche iche;

(4) Enwere ike ijikwa nrụgide ihe nkiri site na teknụzụ ngwakọta ugboro dị elu/ala.

–E bipụtara akụkọ a site n'aka onyeigwe mkpuchi igwe emeputa ihe mkpuchiGuangdong Zhenhua


Oge ozi: Eprel-18-2024