படிக சிலிக்கான் செல் தொழில்நுட்ப வளர்ச்சியின் திசையில் PERT தொழில்நுட்பம் மற்றும் டாப்கான் தொழில்நுட்பமும் அடங்கும், இந்த இரண்டு தொழில்நுட்பங்களும் பாரம்பரிய பரவல் முறை செல் தொழில்நுட்பத்தின் நீட்டிப்பாகக் கருதப்படுகின்றன, அவற்றின் பொதுவான பண்புகள் செல்லின் பின்புறத்தில் செயலற்ற அடுக்கு, மற்றும் இரண்டும் டோப் செய்யப்பட்ட பாலி சிலிக்கானின் அடுக்கை பின்புற புலமாகப் பயன்படுத்துகின்றன, பள்ளி பெரும்பாலும் உயர் வெப்பநிலை ஆக்ஸிஜனேற்றப்பட்ட அடுக்கில் பயன்படுத்தப்படுகிறது, மேலும் டோப் செய்யப்பட்ட பாலி சிலிக்கான் அடுக்கு LPCVD மற்றும் PECVD போன்ற வழிகளில் பயன்படுத்தப்படுகிறது. குழாய் PECVD மற்றும் குழாய் PECVD மற்றும் தட்டையான தட்டு PECVD ஆகியவை PERC செல்களின் பெரிய அளவிலான வெகுஜன உற்பத்தியில் பயன்படுத்தப்பட்டுள்ளன.
குழாய் PECVD அதிக கொள்ளளவைக் கொண்டுள்ளது மற்றும் பொதுவாக பல பத்து kHz குறைந்த அதிர்வெண் மின்சார விநியோகத்தை ஏற்றுக்கொள்கிறது. அயன் குண்டுவீச்சு மற்றும் பைபாஸ் முலாம் பூச்சு சிக்கல்கள் செயலற்ற அடுக்கின் தரத்தை பாதிக்கலாம். தட்டையான தட்டு PECVD பைபாஸ் முலாம் பூசுவதில் சிக்கலைக் கொண்டிருக்கவில்லை, மேலும் பூச்சு செயல்திறனில் அதிக நன்மையைக் கொண்டுள்ளது, மேலும் டோப் செய்யப்பட்ட Si, Si0X, SiCX படலங்களின் படிவுக்குப் பயன்படுத்தலாம். குறைபாடு என்னவென்றால், பூசப்பட்ட படலத்தில் நிறைய ஹைட்ரஜன் உள்ளது, பட அடுக்கின் கொப்புளத்தை ஏற்படுத்த எளிதானது, பூச்சுகளின் தடிமன் குறைவாக உள்ளது. குழாய் உலை பூச்சு பயன்படுத்தி lpcvd பூச்சு தொழில்நுட்பம், ஒரு பெரிய கொள்ளளவுடன், தடிமனான பாலிசிலிகான் படத்தை டெபாசிட் செய்ய முடியும், ஆனால் பட அடுக்கின் முலாம் பூசலை அகற்றிய பிறகு lpcvd செயல்பாட்டில் முலாம் பூசுதல் ஏற்படுகிறது மற்றும் கீழ் அடுக்கை பாதிக்காது. பெருமளவில் உற்பத்தி செய்யப்படும் டாப்கான் செல்கள் சராசரியாக 23% மாற்றும் திறனை அடைந்துள்ளன.
——இந்தக் கட்டுரையை வெளியிட்டவர்வெற்றிட பூச்சு இயந்திரம்குவாங்டாங் ஜென்ஹுவா
இடுகை நேரம்: செப்-22-2023