Pamoja na maendeleo ya kuongezeka kwa teknolojia ya sputtering mipako, hasa magnetron sputtering teknolojia ya mipako, kwa sasa, kwa nyenzo yoyote inaweza kuwa tayari na ion bombardment lengo filamu, kwa sababu lengo ni sputtered katika mchakato wa mipako kwa aina fulani ya substrate, ubora wa filamu sputtered ina athari muhimu, kwa hiyo, mahitaji ya nyenzo lengo pia ni masharti magumu zaidi. Katika uteuzi wa nyenzo zinazolengwa, pamoja na utumiaji wa filamu yenyewe inapaswa kuchaguliwa, inapaswa pia kuzingatia maswala yafuatayo:
1. Nyenzo inayolengwa inapaswa kuwa na nguvu nzuri ya mitambo na utulivu wa kemikali baada ya kuundwa kwa filamu
2. Mchanganyiko wa lengo na substrate lazima iwe na nguvu, vinginevyo inapaswa kuchukuliwa na substrate ina mchanganyiko mzuri wa nyenzo za membrane, kwanza sputtering filamu ya msingi na kisha maandalizi ya safu ya membrane inayohitajika.
3 kama mmenyuko sputtering utando nyenzo lazima rahisi kuguswa na gesi kuzalisha misombo utando; 4.
4. Chini ya msingi wa kukidhi mahitaji ya utendaji wa membrane, tofauti kati ya mgawo wa upanuzi wa joto wa nyenzo inayolengwa na substrate ni ndogo iwezekanavyo, ili kupunguza athari za mkazo wa joto kwenye membrane iliyopigwa.
Ushawishi wa mkazo wa joto wa filamu ya sputtering; 5.
5. Kulingana na mahitaji ya matumizi na utendaji wa membrane, nyenzo inayolengwa lazima ikidhi usafi, maudhui ya uchafu, usawa wa sehemu, usahihi wa machining na mahitaji mengine ya kiufundi.
- Nakala hii imetolewa namtengenezaji wa mashine ya mipako ya utupuGuangdong Zhenhua
Muda wa kutuma: Dec-21-2023