Salvete ad Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Nuntii
-
Fluxus Processus Machinae Sputtering Coating
1. Substratum purgans per bombardamentum 1.1) Machina ad pulverizandum utitur emissione luminescenti ad substratum purgandum. Hoc est, gas argon in cameram immittitur, tensio emissionis est circa 1000V. Postquam fons potentiae accensus est, emissione luminescenti generatur, et substratum purgatur per...Plura lege -
Usus pelliculae opticae in telephoniis mobilibus
Usus tenuium pellicularum opticarum in instrumentis electronicis usui destinatis, ut telephoniis mobilibus, a lentibus camerarum traditis ad alias directiones, ut puta lentibus camerarum, protectoribus lentium, filtris infrarubris sectoriis (IR-CUT), et obductione NCVM in tegumentis accumulatorum telephonorum cellularium, translatus est. Speculae camerarum...Plura lege -
Proprietates apparatus ad CVD applicandum
Technologia obductionis CVD has habet proprietates: 1. Modus operandi apparatus CVD relative simplex et flexibilis est, et pelliculas simplices vel compositas et pelliculas mixturarum metallorum cum diversis proportionibus parare potest; 2. Obductio CVD latam applicationum varietatem habet, et ad prae...Plura lege -
Quae sunt processus machinae ad obducendum in vacuo? Quod est principium operationis?
Processus machinae obductionis vacui dividitur in: obductionem evaporationis vacui, obductionem pulveris catodici vacui, et obductionem ionum vacui. 1. Obductio evaporationis vacui: Sub condicione vacui, materia evaporat, ut metallum, mixtura metallica, etc., deinde deponitur in superficie substrati...Plura lege -
Ad quid servit machina vacuum spirandi?
1. Quid est processus obductionis vacui? Quae est functio? Processus, qui obductionis vacui appellatur, evaporationem et pulverisationem cathodicam in ambitu vacuo utitur ad particulas materiae pelliculae emittendas, quae in metallo, vitro, ceramicis, semiconductoribus et partibus plasticis deponuntur ad stratum obductionis formandum, ad ornandum...Plura lege -
Requisita environmentalia pro apparatu ad obductionem in vacuo
Cum apparatus ad obductionem vacui sub condicionibus vacui operetur, apparatus requisitis vacui pro ambitu satisfacere debet. Normae industriales pro variis generibus apparatuum ad obductionem vacui in patria mea constitutae sunt (inter quas condiciones technicae generales pro apparatu ad obductionem vacui,...Plura lege -
Proprietates et usus depositionis ionicae
Typus pelliculae Materia pelliculae Substratum Proprietates et usus pelliculae Pellicula metallica CrAI、ZnPtNi Au,Cu、AI P、Au Au、W、Ti、Ta Ag、Au、AI、Pt chalybs, chalybs mollisMixtura titanii, chalybs alto carbonis, chalybs mollisMixtura titanii vitrum durumplasticum Nickel, Inconel chalybs, chalybs inoxidabilis silicium Contra attritionem ...Plura lege -
Obductio ionum vacui et eius classificatio
Depositio ionum vacui (breviter "ion deposition") est nova technologia tractationis superficiei quae celeriter annis 1970 evoluta est, a DM Mattox societatis Somdia in Civitatibus Foederatis Americae anno 1963 proposita. Refert ad processum utendi fonte evaporationis vel scopo pulverisationis ad evaporandum vel pulverizandum...Plura lege -
Machina ad obducendum optica ad obducendas plures pelliculas opticas adhiberi potest.
① Pellicula antireflexa. Exempli gratia, camerae, proiectores diapositivarum, proiectores, proiectores cinematographicos, telescopia, specula visualia, et pelliculae MgF unius strati lentibus et prismatibus variorum instrumentorum opticorum inductae, et pelliculae antireflexae latae fasciae duplicis vel pluristratosae ex SiOFrO2, AlO, ... compositae.Plura lege -
Proprietates pellicularum obductarum per pulverisationem cathodicam
① Bona moderatio et repetibilitas crassitudinis pelliculae. Utrum crassitudo pelliculae ad valorem praefinitum moderari possit, moderatio crassitudinis pelliculae appellatur. Crassitudo pelliculae requisita multis vicibus repeti potest, quod repetibilitas crassitudinis pelliculae appellatur. Quia emissio...Plura lege -
Brevis introductio technologiae depositionis vaporis chemici (CVD)
Technologia Depositionis Vaporis Chemici (seu CVD) est technologia pelliculae formandae quae calefactionem, amplificationem plasmatis, photo-adiuvationem, aliaque media adhibet ut substantiae gaseosae pelliculas solidas in superficie substrati producant per reactionem chemicam sub pressione normali vel humili. Generaliter, reactio in...Plura lege -
Factores qui effectum evaporationis vacui in depositione afficiunt
1. Celeritas evaporationis proprietates strati evaporati afficiet. Celeritas evaporationis magnum momentum in pelliculam depositam habet. Quia structura strati, a celeritate depositionis humili formata, laxa est et facile magnas particulas deponere potest, tutissimum est evaporationem maiorem eligere...Plura lege -
Quae sunt fontes pollutionis apparatuum ad obductionem vacui
Instrumenta ad obducendum vacuum ex multis partibus accuratis constat, quae per multa opera, ut ferruminationem, triturationem, tornationem, planationem, perforationem, fresaturam, et cetera, fiunt. Ob haec opera, superficies partium instrumentorum necessario quibusdam sordibus, ut adipe, contaminabitur...Plura lege -
Quae sunt requisita processus obductionis vacui in ambitu applicationis?
Processus obductionis sub vacuo requisita severa pro ambitu applicationis habet. Pro processu vacuo consueto, requisita principalia ad purgationem sub vacuo sunt: nulla fons pollutionis accumulatae in partibus vel superficie instrumentorum in vacuo est, superficies camerae vacui...Plura lege -
Quod est principium operationis machinae ionizationis depungendae?
Machina ionum obducendi ex theoria a DM Mattox proposita annis 1960 orta est, et experimenta correspondentia eo tempore coepta sunt; Usque ad annum 1971, Chambers et alii technologiam obductionis ionum fasciculi electronici divulgaverunt; Technologia obductionis evaporationis reactivae (ARE) in Bu... indicata est.Plura lege
