Vitajte v spoločnosti Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Správy
-
Procesný tok naprašovacieho stroja
1. Čistenie substrátu bombardovaním 1.1) Naprašovací stroj používa na čistenie substrátu tlmivý výboj. To znamená, že sa do komory vpustí argónový plyn, výbojové napätie je okolo 1000 V. Po zapnutí napájania sa vygeneruje tlmivý výboj a substrát sa vyčistí ...Čítať ďalej -
Aplikácia optického filmu v produktoch mobilných telefónov
Aplikácia optických tenkých vrstiev v spotrebnej elektronike, ako sú mobilné telefóny, sa posunula od tradičných objektívov fotoaparátov k diverzifikovanému smeru, ako sú objektívy fotoaparátov, ochranné filtre objektívov, filtre na infračervené žiarenie (IR-CUT) a povlaky NCVM na krytoch batérií mobilných telefónov. Špecifikácie fotoaparátu...Čítať ďalej -
Charakteristiky zariadenia na CVD povlakovanie
Technológia CVD povlakovania má nasledujúce charakteristiky: 1. Procesná prevádzka CVD zariadenia je relatívne jednoduchá a flexibilná a umožňuje prípravu jednoduchých alebo kompozitných fólií a zliatinových fólií s rôznymi pomermi; 2. CVD povlakovanie má širokú škálu aplikácií a možno ho použiť na pred...Čítať ďalej -
Aké sú procesy vákuového lakovania? Aký je princíp fungovania?
Proces vákuového nanášania sa delí na: vákuové naparovanie, vákuové naprašovanie a vákuové iónové nanášanie. 1. Vákuové naparovanie. Za vákuových podmienok sa materiál, ako napríklad kov, kovová zliatina atď., odparí a potom sa nanesie na povrch substrátu...Čítať ďalej -
Na čo slúži vákuový stroj?
1. Čo je proces vákuového nanášania? Aká je jeho funkcia? Takzvaný proces vákuového nanášania využíva odparovanie a naprašovanie vo vákuovom prostredí na emitovanie častíc filmového materiálu, ktoré sa nanášajú na kov, sklo, keramiku, polovodiče a plastové diely a vytvárajú tak povlakovú vrstvu na dekoráciu...Čítať ďalej -
Environmentálne požiadavky na zariadenia na vákuové nanášanie laku
Keďže zariadenie na vákuové nanášanie pracuje vo vákuových podmienkach, musí spĺňať požiadavky vákua pre dané prostredie. Priemyselné normy pre rôzne typy zariadení na vákuové nanášanie formulované v mojej krajine (vrátane všeobecných technických podmienok pre zariadenia na vákuové nanášanie,...Čítať ďalej -
Charakteristiky a použitie iónového pokovovania
Typ filmu Materiál filmu Substrát Vlastnosti filmu a použitie Kovový film CrAI, ZnPtNi Au, Cu, AI P, Au Au, W, Ti, Ta Ag, Au, AI, Pt oceľ, mäkká oceľTitánová zliatina, vysoko uhlíková oceľ, mäkká oceľTitánová zliatinaTvrdý skloplastNikel, Inconel oceľ, nehrdzavejúca oceľ kremík Proti opotrebovaniu ...Čítať ďalej -
Vákuové iónové nanášanie a jeho klasifikácia
Vákuové iónové pokovovanie (skrátene iónové pokovovanie) je nová technológia povrchovej úpravy, ktorá sa rýchlo rozvíja v 70. rokoch 20. storočia. Navrhol ju v roku 1963 D. M. Mattox zo spoločnosti Somdia v Spojených štátoch. Ide o proces použitia zdroja odparovania alebo rozprašovacieho terča na odparovanie alebo rozprašovanie...Čítať ďalej -
Optický povlakovací stroj sa môže použiť na povlakovanie viacerých optických filmov
① Antireflexná fólia. Napríklad fotoaparáty, diaprojektory, projektory, filmové projektory, teleskopy, priezory a jednovrstvové MgF2 fólie nanesené na šošovky a hranoly rôznych optických prístrojov a dvojvrstvové alebo viacvrstvové širokopásmové antireflexné fólie zložené zo SiOFrO2, AlO, ...Čítať ďalej -
Charakteristiky naprašovacích filmov
① Dobrá ovládateľnosť a opakovateľnosť hrúbky filmu Či je možné ovládať hrúbku filmu na vopred určenej hodnote, sa nazýva ovládateľnosť hrúbky filmu. Požadovanú hrúbku filmu je možné opakovať mnohokrát, čo sa nazýva opakovateľnosť hrúbky filmu. Pretože výboj...Čítať ďalej -
Stručný úvod do technológie chemického nanášania z pár (CVD)
Technológia chemickej depozície z pár (CVD) je technológia tvorby filmu, ktorá využíva zahrievanie, plazmové vylepšenie, fotoasistenciu a iné prostriedky na to, aby plynné látky vytvorili pevné filmy na povrchu substrátu prostredníctvom chemickej reakcie za normálneho alebo nízkeho tlaku. Reakcia vo všeobecnosti...Čítať ďalej -
Faktory ovplyvňujúce výkon vákuového odparovania
1. Rýchlosť odparovania ovplyvní vlastnosti naparovaného povlaku. Rýchlosť odparovania má veľký vplyv na nanesený film. Pretože štruktúra povlaku vytvorená nízkou rýchlosťou nanášania je voľná a ľahko sa v nej usadzujú veľké častice, je veľmi bezpečné zvoliť si vyššiu rýchlosť odparovania ...Čítať ďalej -
Aké sú zdroje znečistenia zariadeniami na vákuové nanášanie?
Zariadenie na vákuové nanášanie laku sa skladá z mnohých presných dielov, ktoré sa vyrábajú rôznymi procesmi, ako je zváranie, brúsenie, sústruženie, hobľovanie, vŕtanie, frézovanie atď. V dôsledku týchto prác bude povrch dielov zariadenia nevyhnutne kontaminovaný niektorými znečisťujúcimi látkami, ako je napríklad mastnota...Čítať ďalej -
Aké sú požiadavky procesu vákuového nanášania na aplikačné prostredie?
Proces vákuového nanášania má prísne požiadavky na aplikačné prostredie. V prípade konvenčného vákuového procesu sú jeho hlavné požiadavky na vákuovú sanitáciu nasledovné: na častiach alebo povrchu zariadenia vo vákuu sa nenahromadil zdroj znečistenia, povrch vákuovej komory...Čítať ďalej -
Aký je princíp fungovania stroja na iónové pokovovanie
Stroj na iónové pokovovanie vznikol z teórie, ktorú navrhol D. M. Mattox v 60. rokoch 20. storočia, a v tom čase sa začali aj zodpovedajúce experimenty; Do roku 1971 Chambers a ďalší publikovali technológiu iónového pokovovania elektrónovým lúčom; Technológia reaktívneho odparovania (ARE) bola zdôraznená v Bu...Čítať ďalej
