Καλώς ορίσατε στην Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Νέα
-
Ροή διαδικασίας της μηχανής επικάλυψης με ψεκασμό
1. Υπόστρωμα καθαρισμού βομβαρδισμού 1.1) Η μηχανή επικάλυψης με ψεκασμό χρησιμοποιεί εκκένωση πυράκτωσης για τον καθαρισμό του υποστρώματος. Δηλαδή, φορτίστε το αέριο αργού στον θάλαμο, η τάση εκκένωσης είναι περίπου 1000V. Αφού ενεργοποιήσετε την παροχή ρεύματος, παράγεται μια εκκένωση πυράκτωσης και το υπόστρωμα καθαρίζεται με...Διαβάστε περισσότερα -
Εφαρμογή οπτικής μεμβράνης σε προϊόντα κινητών τηλεφώνων
Η εφαρμογή λεπτών οπτικών μεμβρανών σε καταναλωτικά ηλεκτρονικά προϊόντα, όπως τα κινητά τηλέφωνα, έχει μετατοπιστεί από τους παραδοσιακούς φακούς κάμερας σε μια διαφοροποιημένη κατεύθυνση, όπως οι φακοί κάμερας, τα προστατευτικά φακών, τα φίλτρα αποκοπής υπέρυθρων (IR-CUT) και η επίστρωση NCVM σε καλύμματα μπαταριών κινητών τηλεφώνων. Οι προδιαγραφές κάμερας...Διαβάστε περισσότερα -
Χαρακτηριστικά του εξοπλισμού επίστρωσης CVD
Η τεχνολογία επίστρωσης CVD έχει τα ακόλουθα χαρακτηριστικά: 1. Η λειτουργία της διαδικασίας του εξοπλισμού CVD είναι σχετικά απλή και ευέλικτη και μπορεί να παρασκευάσει μονές ή σύνθετες μεμβράνες και μεμβράνες κράματος με διαφορετικές αναλογίες. 2. Η επίστρωση CVD έχει ένα ευρύ φάσμα εφαρμογών και μπορεί να χρησιμοποιηθεί για την προ...Διαβάστε περισσότερα -
Ποιες είναι οι διαδικασίες της μηχανής επίστρωσης κενού; Ποια είναι η αρχή λειτουργίας;
Η διαδικασία της μηχανής επίστρωσης κενού χωρίζεται σε: επίστρωση με εξάτμιση κενού, επίστρωση με ψεκασμό κενού και επίστρωση ιόντων κενού. 1, Επίστρωση με εξάτμιση κενού Υπό συνθήκες κενού, εξατμίστε το υλικό, όπως το μέταλλο, το κράμα μετάλλου κ.λπ., και στη συνέχεια τοποθετήστε το στην επιφάνεια του υποστρώματος...Διαβάστε περισσότερα -
Σε τι χρησιμεύει η μηχανή κενού αέρος;
1, Τι είναι η διαδικασία επίστρωσης κενού; Ποια είναι η λειτουργία; Η λεγόμενη διαδικασία επίστρωσης κενού χρησιμοποιεί εξάτμιση και ψεκασμό σε περιβάλλον κενού για την εκπομπή σωματιδίων υλικού μεμβράνης, που εναποτίθενται σε μέταλλο, γυαλί, κεραμικά, ημιαγωγούς και πλαστικά μέρη για να σχηματίσουν ένα στρώμα επίστρωσης, για αποκόλληση...Διαβάστε περισσότερα -
Περιβαλλοντικές απαιτήσεις για εξοπλισμό επίστρωσης κενού
Δεδομένου ότι ο εξοπλισμός επίστρωσης κενού λειτουργεί υπό συνθήκες κενού, ο εξοπλισμός πρέπει να πληροί τις απαιτήσεις κενού για το περιβάλλον. Τα βιομηχανικά πρότυπα για διάφορους τύπους εξοπλισμού επίστρωσης κενού που έχουν διατυπωθεί στη χώρα μου (συμπεριλαμβανομένων των γενικών τεχνικών όρων για τον εξοπλισμό επίστρωσης κενού,...Διαβάστε περισσότερα -
Τα χαρακτηριστικά και η εφαρμογή της ιοντικής επιμετάλλωσης
Τύπος μεμβράνης Υλικό μεμβράνης Υπόστρωμα Χαρακτηριστικά και εφαρμογή μεμβράνης Μεταλλική μεμβράνη CrAI、ZnPtNi Au,Cu、AI P、Au Au、W、Ti、Ta Ag、Au、AI、χάλυβας Pt, μαλακός χάλυβαςΚράμα τιτανίου, χάλυβας υψηλής περιεκτικότητας σε άνθρακα, μαλακός χάλυβαςΚράμα τιτανίουσκληρό γυαλί πλαστικό Νικέλιο, χάλυβας Inconel, ανοξείδωτος χάλυβας πυρίτιο Αντιδιαβρωτική...Διαβάστε περισσότερα -
Επίστρωση ιόντων κενού και η ταξινόμησή της
Η επιμετάλλωση ιόντων κενού (εν συντομία επιμετάλλωση ιόντων) είναι μια νέα τεχνολογία επεξεργασίας επιφανειών που αναπτύχθηκε ραγδαία τη δεκαετία του 1970, η οποία προτάθηκε από τον DM Mattox της Somdia Company στις Ηνωμένες Πολιτείες το 1963. Αναφέρεται στη διαδικασία χρήσης πηγής εξάτμισης ή στόχου ψεκασμού για εξάτμιση ή ψεκασμό...Διαβάστε περισσότερα -
Η μηχανή οπτικής επίστρωσης μπορεί να χρησιμοποιηθεί για την επίστρωση πολλαπλών οπτικών φιλμ
① Αντιανακλαστική μεμβράνη. Για παράδειγμα, κάμερες, προβολείς διαφανειών, προβολείς, προβολείς ταινιών, τηλεσκόπια, σκόπευτρα και μεμβράνες MgF μονής στρώσης επικαλυμμένες σε φακούς και πρίσματα διαφόρων οπτικών οργάνων, καθώς και διπλής στρώσης ή πολλαπλών στρώσεων αντιανακλαστικές μεμβράνες ευρείας ζώνης που αποτελούνται από SiOFrO2, AlO, ...Διαβάστε περισσότερα -
Χαρακτηριστικά των μεμβρανών επικάλυψης με ψεκασμό
① Καλή δυνατότητα ελέγχου και επαναληψιμότητας του πάχους της μεμβράνης Το αν το πάχος της μεμβράνης μπορεί να ελεγχθεί σε μια προκαθορισμένη τιμή ονομάζεται δυνατότητα ελέγχου του πάχους της μεμβράνης. Το απαιτούμενο πάχος της μεμβράνης μπορεί να επαναληφθεί πολλές φορές, κάτι που ονομάζεται επαναληψιμότητα του πάχους της μεμβράνης. Επειδή η εκκένωση...Διαβάστε περισσότερα -
Σύντομη εισαγωγή στην τεχνολογία χημικής εναπόθεσης ατμών (CVD)
Η τεχνολογία χημικής εναπόθεσης ατμών (CVD) είναι μια τεχνολογία σχηματισμού φιλμ που χρησιμοποιεί θέρμανση, ενίσχυση πλάσματος, φωτοϋποβοηθούμενα και άλλα μέσα για να κάνει τις αέριες ουσίες να παράγουν στερεές μεμβράνες στην επιφάνεια του υποστρώματος μέσω χημικής αντίδρασης υπό κανονική ή χαμηλή πίεση. Γενικά, η αντίδραση σε...Διαβάστε περισσότερα -
Παράγοντες που επηρεάζουν την απόδοση της επιμετάλλωσης με εξάτμιση κενού
1. Ο ρυθμός εξάτμισης θα επηρεάσει τις ιδιότητες της εξατμισμένης επικάλυψης. Ο ρυθμός εξάτμισης έχει μεγάλη επίδραση στην εναποτιθέμενη μεμβράνη. Επειδή η δομή της επικάλυψης που σχηματίζεται από τον χαμηλό ρυθμό εναπόθεσης είναι χαλαρή και εύκολη στην παραγωγή μεγάλης εναπόθεσης σωματιδίων, είναι πολύ ασφαλές να επιλέξετε μια υψηλότερη εξάτμιση...Διαβάστε περισσότερα -
Ποιες είναι οι πηγές ρύπανσης του εξοπλισμού επίστρωσης κενού
Ο εξοπλισμός επίστρωσης κενού αποτελείται από πολλά ακριβή μέρη, τα οποία κατασκευάζονται μέσω πολλών διαδικασιών, όπως συγκόλληση, λείανση, τόρνευση, πλάνισμα, διάτρηση, φρεζάρισμα και ούτω καθεξής. Λόγω αυτών των εργασιών, η επιφάνεια των εξαρτημάτων του εξοπλισμού αναπόφευκτα θα μολυνθεί με ορισμένους ρύπους όπως γράσο...Διαβάστε περισσότερα -
Ποιες είναι οι απαιτήσεις της διαδικασίας επίστρωσης κενού στο περιβάλλον εφαρμογής;
Η διαδικασία επίστρωσης κενού έχει αυστηρές απαιτήσεις για το περιβάλλον εφαρμογής. Για τη συμβατική διαδικασία κενού, οι κύριες απαιτήσεις για την απολύμανση κενού είναι: δεν υπάρχει συσσωρευμένη πηγή ρύπανσης στα μέρη ή την επιφάνεια του εξοπλισμού στο κενό, η επιφάνεια της κενής αίθουσας...Διαβάστε περισσότερα -
Ποια είναι η αρχή λειτουργίας της μηχανής ιοντικής επιμετάλλωσης
Η μηχανή επικάλυψης ιόντων προέκυψε από τη θεωρία που πρότεινε ο DM Mattox τη δεκαετία του 1960 και αντίστοιχα πειράματα ξεκίνησαν εκείνη την εποχή. Μέχρι το 1971, ο Chambers και άλλοι δημοσίευσαν την τεχνολογία της επιμετάλλωσης με δέσμη ηλεκτρονίων. Η τεχνολογία επιμετάλλωσης με αντιδραστική εξάτμιση (ARE) επισημάνθηκε στο Bu...Διαβάστε περισσότερα
